基于光纤光栅传感的化学镀膜过程本征应力监测

发布时间：2017-10-22 14:26

本文关键词：基于光纤光栅传感的化学镀膜过程本征应力监测

【摘要】：为了研究化学镀膜过程中本征应力的演变过程,建立了基于光纤光栅传感的本征应力计算模型,提出了一种监测化学镀膜过程本征应力演变的方法.通过记录光纤光栅中心波长的偏移量,结合裸光栅进行补偿,实现了在线监测化学镀膜过程产生的本征应力.使用光纤光栅传感器对化学镀Cu过程中本征应力进行监测.结果表明:在化学镀Cu过程中,光纤光栅中心波长蓝移,本征应力表现为压应力,且本征应力随时间的增加而增大;监测光栅的压力灵敏度为4.10 pm/MPa,监测准确度可达到0.24 Mpa.
【作者单位】：南昌大学机电工程学院机器人及焊接自动化重点实验室;
【关键词】： 应用光学 应力演变监测方法 在线监测 本征应力 光纤光栅
【基金】：国家自然科学基金(No.51265035) 江西省自然基金(No.20151BAB206031)资助~~
【分类号】：TB383.2
【正文快照】： 0S3.^. 随着科技的发展,薄膜制备技术在显示设备、医学光电设备、光通讯、太阳能电池及高功率强激光系统等领域中得到广泛应用薄膜在制备过程中会产生薄膜应力[4],这种薄膜应力按形成机理的不同,可以分为热应力和本征应力?镀膜过程中,基体材料和薄膜同时加热到一定温度,当镀

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