MPCVD金刚石膜装置的研究进展
本文关键词:MPCVD金刚石膜装置的研究进展
【摘要】:微波等离子体(MPCVD)法因其独特的优势,成为高速、大面积、高质量制备金刚石膜的首选方法,MPCVD金刚石膜装置的研究受到科研人员和工业界的广泛关注。文章对金刚石膜的性质和各种制备方法进行了简要概述,论述了CVD金刚石膜的生长机理,着重阐述了各种MPCVD装置的结构特点及工作原理,并对各种装置的优、缺点进行了分析。研究结果表明:研制具有高品质因数谐振腔能激发均匀微波等离子体的MPCVD装置,是进一步开发金刚石膜工业化应用所需解决的主要问题。
【作者单位】: 中国科学院电工研究所;武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料重点实验室;
【关键词】: 金刚石膜 MPCVD 谐振腔
【基金】:湖北省教育厅项目(Q20151517)
【分类号】:TB383.2
【正文快照】: 0引言金刚石是天然物质中最硬的材料,在热学、声学、光学、电学等方面具有优异的物理化学性能[1-2]。金刚石膜可以明显改善器件的工作效率,使器件在技术指标、使用寿命、运行可靠性和经济性等多方面获得更优异的效果,因此对金刚石的研究与应用已成为各个领域的科研工作者深入
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