磁控溅射法制备掺杂ZnO透明导电薄膜及其研究进展

发布时间：2017-11-01 10:13

  本文关键词：磁控溅射法制备掺杂ZnO透明导电薄膜及其研究进展

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【摘要】：磁控溅射技术以其显著的优点已成为工业镀膜主要技术之一。充分发挥磁控溅射镀膜技术的现有优势,寻找新的增长点,成为近年来人们研究的热点。介绍了磁控溅射镀膜技术的原理、特点;总结了近来磁控溅射法制备掺杂ZnO薄膜,主要是Al掺杂、Si掺杂、Al-H共掺杂ZnO薄膜的研究进展。并在此基础上对掺杂ZnO透明导电薄膜的发展趋势进行了展望。
【作者单位】： 海南大学材料与化工学院海南省特种玻璃重点实验室;
【关键词】： 磁控溅射 ZnO透明导电薄膜 掺杂
【基金】：科技部国家支撑计划(2013BAE03B02) 海南省科技厅重大科研专项(ZDZX2013002)
【分类号】：TB383.2
【正文快照】： (Special Glass Laboratory of Hainan Province,College of Materials and Chemical Engineering,Hainan University,Haikou 570228)*科技部国家支撑计划(2013BAE03B02);海南省科技厅重大科研专项(ZDZX2013002)段光申:男,1990年生,硕士生,主要研究方向为特种玻璃制备与应用E-

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本文编号：1126359