氮化铪在蓝宝石衬底上的镀膜研究

发布时间：2017-11-22 12:29

  本文关键词：氮化铪在蓝宝石衬底上的镀膜研究

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【摘要】：利用反应式磁控溅射镀膜系统在蓝宝石衬底上制备了氮化铪(HfxN)薄膜,系统研究了氮气流量fN和镀膜温度Ts对HfxN薄膜的物相组成、晶体结构和电学性质的影响。实验结果表明,在fN=3sccm时,可以在蓝宝石衬底上获得化学计量比接近1的HfxN薄膜,方块电阻为5.24Ω/sq;X射线衍射光谱(XRD)结果显示薄膜为岩盐结构的δ-HfN相;提高镀膜温度可以显著提高HfxN薄膜在蓝宝石衬底上的晶体质量,并且薄膜趋于(111)方向单晶生长;原子力显微镜(AFM)显示薄膜表面平整,均方根粗糙度Rq=0.193nm。
【作者单位】： 中国科学院上海高等研究院;中国科学院大学;浙江谷丰科技有限公司;
【基金】：中国科学院百人计划择优基金(Y522711401)
【分类号】：TB306
【正文快照】： 3浙江谷丰科技有限公司,杭州310011)0引言氮化铪(HfxN)是ⅣB族过渡金属氮化物,具有众多优异性能,如良好的导电性,在可见光和红外波段都表现出很高的反射率,良好的热稳定性(Tm=3387℃)和较高的热导率(21.7 W/(m·K))[1]。此外,HfxN薄膜可以作为氮化镓(GaN)外延生长的过渡层材料

【相似文献】

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1 孙仁全;通过动力学标度理论研究氮化铪薄膜的生长机制[D];吉林大学;2015年

2 荀显超;氮化铪及其复合材料的合成和表征[D];吉林大学;2008年

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本文编号：1214730