原子层沉积法制备微通道板发射层的性能

发布时间：2017-11-22 15:19

  本文关键词：原子层沉积法制备微通道板发射层的性能

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【摘要】：随着微通道板的不断发展与完善,通过改善传统工艺提升其性能越来越困难,开发提升微通道板性能的新技术迫在眉睫。纳米薄膜材料的发展及其制备技术的成熟为微通道板的发展提供了契机,利用原子层沉积技术在通道内壁沉积一层氧化铝纳米薄膜,作为二次电子发射功能层,可以增强通道内壁的二次电子发射能力,从而提升微通道板的增益性能。通过优化原子层沉积工艺参数可以在微通道板的通道内壁沉积厚度均匀的氧化铝薄膜。研究结果表明,微通道板增益随沉积氧化铝厚度的变化而变化,在氧化铝厚度为60 cycles时,施加偏压800 V时增益可达56 000,约为正常微通道板增益的12倍。
【作者单位】： 北方夜视技术股份有限公司;
【分类号】：TN152;TB383.1
【正文快照】： 0引言微通道板(Microchannel Plate,MCP)是由许多(104~107)个通道电子倍增器(Channeltron ElectronMultiplier,CEM)组成的结构紧凑的两维阵列,具有体积小、质量轻、增益高、噪声低、均匀性好、空间分辨率高、时间响应快等优点,广泛应用于夜视技术、空间技术、光学仪器、光电子

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本文编号：1215155