热丝CVD金刚石涂层温度场补偿优化研究

发布时间：2017-11-29 00:15

  本文关键词：热丝CVD金刚石涂层温度场补偿优化研究

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【摘要】：采用热丝化学气相沉积法(chemical vapor deposition,CVD)制备金刚石薄膜时,对反应室温度场尤其是衬底温度的精确控制是沉积高质量CVD金刚石膜的主要难点之一。在现有HF 650热丝CVD设备的基础上进行优化研究,基于热反射原理,采用Fluent软件进行模拟仿真计算,据此提出了反应室温度场补偿装置,即:在热丝CVD设备基台表面与四周布置反射板。对改进后的设备进行试验对比分析。研究结果表明:利用温度场补偿装置使衬底温度波动从原本的9.3%缩小到3.0%,有效改善热丝CVD系统衬底温度场的均匀性,并通过试验测试得到验证。用该装置制备的金刚石薄膜中金刚石与石墨的拉曼峰强度比值I_D/I_G=4.33,说明金刚石成膜质量得到提高。
【作者单位】： 同济大学;中石化科技部;
【基金】：国家自然科学基金资助(51275358) 中央高校专项基金资助(20140750)
【分类号】：TQ163;TB383.2
【正文快照】： 随着汽车、航空航天、微机械加工等领域的飞速发展,一些强度高、耐磨性好、热膨胀系数小的新型材料,如增强铝基复合材料、碳纤维增强材料和新型陶瓷材料等,得到了广泛的应用[1 2]。而金刚石薄膜因具有高硬度、高导热率、低摩擦系数以及良好的自润滑性和化学稳定性等优异的性

【参考文献】

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本文编号：1235510