纳米台阶高度标准样块的研制与评价

发布时间：2017-12-15 00:14

  本文关键词：纳米台阶高度标准样块的研制与评价

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【摘要】：介绍了纳米台阶高度标准样块的用途及国内研制样块的情况,设计了纳米台阶高度样块的结构和制作工艺流程,制作了高度20nm~100nm的样块。以20nm、50nm、100nm为例对样块的台阶高度、台阶上下表面平行度、台阶测量区域的粗糙度、均匀性、稳定性进行了考核。结果表明,研制的样块台阶高度与设计值基本一致,稳定性好,与美国VLSI公司的相同高度的台阶高度标准样块相比,本文制作样块的平行度、粗糙度、均匀性与VLSI样块评价测量结果一致。
【作者单位】： 中国电子科技集团公司第十三研究所;
【分类号】：TB383.1
【正文快照】： 1引言随着纳米科技与超精密加工技术的快速发展,相关器件和结构的尺寸越来越小,测量精度的要求也越来越高[1],从而对微纳米尺寸测量提出了更高的要求。台阶高度是器件的主要参数,台阶仪、纳米测量机等测量微纳尺寸台阶高度的仪器,其准确度的保证是该参数准确测量的前提[2~4]。

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本文编号：1289906