低温沉积金刚石薄膜的研究

发布时间：2017-12-15 08:08

  本文关键词：低温沉积金刚石薄膜的研究

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【摘要】：利用微波等离子体化学气相沉积法,以甲烷、氢气和氩气作为工作气体,在较低的沉积温度下,沉积得到了连续的金刚石薄膜。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪分别对金刚石薄膜的表面形貌、生长结构以及沉积质量进行了表征。实验结果表明,氩气的引入虽然可以有效的降低获得金刚石薄膜所需的基片温度,但为了提高金刚石薄膜的质量,需要适当的提高微波功率。同时,当基片温度一定时,在CH4/H2/Ar体系和CH4/H2体系下均可获得表面形貌与生长结构相似的金刚石薄膜,且可能利用CH4/H2/Ar作为工作气体沉积金刚石薄膜所需要的微波功率更低。
【作者单位】： 武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室;
【基金】：湖北省教育厅科学技术研究计划优秀中青年人才项目(No.Q20151517) 武汉工程大学科学研究基金项目(No.K201506)
【分类号】：TQ163;TB383.2
【正文快照】： 0引言金刚石膜在电学、光学、机械、热学等方面表现出的优良性能,使其受到广泛的关注[1-3]。其中化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石因其可具有与天然金刚石相媲美的特性,而引起了科研工作者的兴趣[4-5]。但在利用CVD技术制备微米金刚石膜的过程中,基片温度一

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本文编号：1291213