银纳米线透明电极的成膜及后处理综述

发布时间：2017-12-26 01:09

  本文关键词：银纳米线透明电极的成膜及后处理综述　出处：《贵金属》2016年03期 　论文类型：期刊论文

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【摘要】：银纳米线是一种有较大应用潜力的新一代透明导电电极材料。总结了利用银纳米线制备透明电极常用的旋涂、喷涂和棒涂法3种主要液相成膜工艺,对成膜工艺对膜性能的影响以及其应用潜力进行了分析;介绍了加热、加压和引入介质3类后处理方法,阐述了不同后处理方法对银纳米线透明电极综合性能的影响。
【作者单位】： 国防科学技术大学航天科学与工程学院材料科学与工程系;
【分类号】：TB383.2;O614.122
【正文快照】： 透明电极被广泛应用于太阳能的电池[1-3]、触摸屏[4-5]、有机发光二极管(OLED)[6-8]等电子器件中。透明导电膜层材料大多为透明导电金属氧化物如氧化铟锡(ITO)。在90%以上的透过率(T)下,该材料方阻(Rs)小于100?/sq[9-10],透光导电综合性能优异。ITO膜的主要缺点是综合成本较高

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本文编号：1335194