磁控溅射制备CrMoAlN梯度薄膜的抗高温氧化性能

发布时间：2018-02-13 22:56

  本文关键词： CrMoAlN梯度薄膜 磁控溅射 微观结构 高温氧化　出处：《中国有色金属学报》2017年07期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：采用非平衡磁控溅射离子镀技术在M2工具钢和单晶Si表面沉积CrMoAlN梯度薄膜,并在静态空气中进行600、700、800、900℃的高温氧化实验。采用XRD、SEM、XPS、纳米压痕和划痕实验等研究,结果表明:CrMoAlN薄膜呈现与CrN相似的面心立方结构,主要以CrN、AlN和γ-Mo_2N形态存在。经800℃氧化2 h后,CrMoAlN薄膜基本保持常温时的晶体结构与力学性能。随着氧化温度继续升高,薄膜表层的MoO3加速挥发,破坏由Cr_2O_3和Al_2O_3组成的致密氧化层,薄膜表面出现细小孔隙,薄膜氧化程度加剧。经900℃氧化2 h后,CrMoAlN薄膜的力学性能和膜/基结合强度均出现明显下降。
[Abstract]:CrMoAlN gradient films were deposited on the surface of M2 tool steel and single crystal Si by unbalanced magnetron sputtering ion plating technique, and the high temperature oxidation experiments were carried out at 600,700,800,900 鈩，

本文编号：1509296