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聚偏氟乙烯-氟化二氧化硅有机-无机复合膜的制备及脱硫性能

发布时间:2018-03-23 19:40

  本文选题:聚偏氟乙烯 切入点:气-液膜接触器 出处:《高分子材料科学与工程》2017年02期


【摘要】:以聚偏氟乙烯(PVDF)为基膜材料,通过溶胶凝胶-氟化法在PVDF膜表面沉淀氟化的二氧化硅纳米颗粒(fSiO_2),制备聚偏氟乙烯-氟化二氧化硅(PVDF-fSiO_2)有机-无机复合膜。通过衰减全反射傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱、场发射扫描电子显微镜、接触角测定仪等对PVDF-fSiO_2复合膜进行表征,并评价其脱硫性能。结果表明,PVDFfSiO_2复合膜表面的接触角为106.9°,明显高于PVDF膜的76.4°;由于PVDF-fSiO_2复合膜的良好疏水性能和fSiO_2粒子对基膜的保护作用,随着脱硫时间的延长,PVDF-fSiO_2气-液膜接触器的脱硫率基本保持在79%左右。
[Abstract]:Polyvinylidene fluoride (PVDF) was used as the base film material. Polyvinylidene fluoride (PVDF-fSiO _ 2) organic-inorganic composite films were prepared by precipitation of fluorinated silica nanoparticles (fSiO2C) on the surface of PVDF films by sol-gel fluorination method. Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) of attenuated total reflectance (FTIR) spectroscopy was used to prepare PVDF-fSiO-2 composite films with polyvinylidene fluoride (PVDF-fSiO-2). X-ray photoelectron spectroscopy, The PVDF-fSiO_2 composite films were characterized by field emission scanning electron microscope and contact angle measuring instrument. The results show that the contact angle of PVDF fSiO2 composite membrane is 106.9 掳, which is obviously higher than that of PVDF film 76.4 掳, due to the good hydrophobic property of PVDF-fSiO_2 composite film and the protective effect of fSiO_2 particles on the substrate film, the contact angle of PVDF fSiO2 composite membrane is 106.9 掳, which is obviously higher than that of PVDF film. The desulphurization rate of PVDF-fSiO2 gas-liquid film contactor is about 79% with the increase of desulphurization time.
【作者单位】: 天津工业大学材料科学与工程学院;唐山学院环境与化学工程系;分离膜与膜过程省部共建国家重点实验室(天津工业大学);国家海洋局天津海水淡化与综合利用研究所;
【基金】:国家自然科学基金资助项目(50973083,51173132) 国家自然科学青年基金资助项目(51503146) 2013海洋公益专项项目(201305004-5) 分离膜与膜过程省部共建国家重点实验室开放课题 河北省科技计划项目(13273707,16211243) 河北省唐山市科技计划项目(14130238B)
【分类号】:TB332;TB383.2

【参考文献】

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【共引文献】

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本文编号:1654892

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