磁控溅射沉积Cu-W膜的结构及性能研究

发布时间：2018-05-13 13:55

  本文选题：Cu-W薄膜 + 磁控溅射　； 参考：《材料保护》2017年03期

【摘要】：为得到最佳性能的磁控溅射Cu-W薄膜,采用磁控溅射技术在玻璃片上沉积Cu-W单层膜。采用电子探针测试薄膜中W含量,采用X射线衍射仪、扫描电镜、硬度仪、凹抗仪、分析膜层物相、形貌及耐磨性。研究了W含量对Cu-W薄膜显微结构和性能的影响。结果表明,在沉积过程中W对Cu-W薄膜的晶粒大小及沉积速率有重要影响:随W含量的增加,Cu-W薄膜的晶粒尺寸减少,薄膜的沉积速率随之减少,薄膜W含量对膜的硬度、耐磨性能也起着关键作用;当W含量在11.1%时,Cu-W薄膜具有最好的硬度和耐磨性。
[Abstract]:In order to obtain the best magnetron sputtering Cu-W thin films, Cu-W monolayer films were deposited on glass substrates by magnetron sputtering technique. The W content in the film was measured by electron probe, and the phase, morphology and wear resistance of the film were analyzed by X-ray diffractometer, scanning electron microscope, hardness tester and concave resistance instrument. The effect of W content on the microstructure and properties of Cu-W films was investigated. The results show that W has an important effect on the grain size and deposition rate of Cu-W films during the deposition process. With the increase of W content, the grain size of Cu-W films decreases, the deposition rate decreases, and the hardness of the films decreases with the W content of the films. The wear resistance also plays a key role, and Cu-W films have the best hardness and wear resistance when the W content is 11.1.
【作者单位】： 井冈山大学建工学院新型低碳环保建材研究所;哈佛大学医学院贝斯以色列女执事医学中心;
【基金】：国家自然科学基金(81260230);国家自然科学基金(31560266) 江西省星火计划(20151BBF61076) 江西省科技支撑计划重大专项(20152ACG7017) 江西省科技成果重点转移转化计划(20151BBI90035) 江西省普通本科高校中青年教师发展计划访问学者专项资金项目资助
【分类号】：TB383.2

【相似文献】

相关期刊论文 前10条

1 施立群,金钦华,刘超卓,徐世林,周筑颖;直流磁控溅射沉积含He钛膜的研究[J];原子核物理评论;2005年01期

2 温培刚;颜悦;张官理;望咏林;;磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响[J];航空材料学报;2007年03期

3 崔江涛;刘向力;田修波;胡新东;杨士勤;;直流磁控溅射沉积钽膜的结构与性能研究[J];真空科学与技术学报;2007年03期

4 赵嘉学;王军生;;等离子体发射监控系统参与的中频孪生反应磁控溅射沉积TiO_2薄膜的实验研究[J];真空科学与技术学报;2009年06期

5 田林海;宗瑞磊;朱晓东;唐宾;何家文;;离子束辅助磁控溅射沉积铬-铜-氮薄膜的结构与性能[J];机械工程材料;2006年05期

6 周灵平;汪明朴;彭坤;朱家俊;傅臻;李周;;双靶磁控溅射沉积Cu-W薄膜组织结构特征及其演变(英文)[J];Transactions of Nonferrous Metals Society of China;2012年11期

7 张广安;王鹏;陈友明;王霞;闫鹏勋;张俊彦;;中频磁控溅射沉积含铝类金刚石碳膜结构及其摩擦磨损性能研究[J];摩擦学学报;2008年02期

8 张栋;孙丽丽;王振玉;柯培玲;汪爱英;谢仕芳;;离子束辅助磁控溅射沉积CrN_x薄膜结构以及力学性能研究[J];真空科学与技术学报;2013年12期

9 纪艳玲,张建苏,李建平,范瑞麟,吴凤筠;IC-6 合金磁控溅射沉积 NiCrAlX 保护涂层结构特性研究[J];航空制造工程;1997年08期

10 方应翠;朱仁胜;夏锡全;汪洪波;王旭迪;朱武;陈长琦;;反应磁控溅射沉积SiO_x薄膜制备镶嵌在二氧化硅介质中纳米晶硅不可行性研究[J];真空科学与技术学报;2009年05期

相关会议论文 前4条

1 伍建华;望咏林;温培刚;张晓峰;;柔性基底上Al膜的低能离子束辅助磁控溅射沉积[A];TFC’09全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2009年

2 吕学超;张永彬;张厚量;任大鹏;郎定木;张延志;;脉冲激光和磁控溅射沉积Mo薄膜研究[A];TFC'07全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2007年

3 李侃;金浩;王德苗;;氮气浓度对射频反应磁控溅射沉积AIN薄膜的影响[A];第六届华东三省一市真空学术交流会论文集[C];2009年

4 张斌;张俊彦;;中频磁控溅射沉积CNx纳米柱阵列及其影响因素[A];中国真空学会2008年学术年会论文摘要集[C];2008年

，

本文编号：1883416