电沉积制备镍-铁薄膜及其性能的研究

发布时间：2018-08-20 17:04

【摘要】：研究了电流密度对镍-铁薄膜的电化学过程、成分、表面形貌、耐蚀性和磁性能的影响。通过实验发现,镍-铁薄膜的电沉积属于一种"异常共沉积"现象。低电流密度下,镍-铁薄膜中铁的质量分数较高;高电流密度下,镍-铁薄膜中镍的质量分数较高。镍-铁薄膜属于一种典型的颗粒膜层,在4A/dm2下制得的镍-铁薄膜表面致密、颗粒细致、耐蚀性较好。随着电流密度的增大,镍-铁薄膜的矫顽力逐渐升高,而比饱和磁化强度逐渐降低。
[Abstract]:The effects of current density on the electrochemical process, composition, surface morphology, corrosion resistance and magnetic properties of Ni-Fe thin films were investigated. It is found that electrodeposition of Ni-Fe thin films is an abnormal co-deposition phenomenon. At low current density, the mass fraction of iron in Ni-Fe film is higher than that in Ni-Fe thin film at high current density, and the mass fraction of Ni in Ni-Fe film is higher at high current density. Ni-Fe thin film is a typical granular film. The Ni-Fe film prepared under 4A/dm2 has compact surface, fine grain and good corrosion resistance. With the increase of current density, the coercivity of Ni-Fe thin films increases and the specific saturation magnetization decreases.
【作者单位】： 吉林化工学院;
【分类号】：TB383.2;TM271

【参考文献】

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【共引文献】

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本文编号：2194356