当前位置:主页 > 科技论文 > 材料论文 >

硼掺杂球磨SiGe合金的热电性能

发布时间:2019-03-27 19:26
【摘要】:SiGe合金热电材料作为一种传统的高温热电材料一直以来受到广泛关注。本研究通过B在球磨SiGe合金中的P型掺杂,有效增加了材料的载流子浓度,优化材料的电学性能。通过球磨降低材料的晶粒尺寸,增强晶界对声子的散射,降低材料的晶格热导率。另外,B掺杂使点缺陷散射和载流子-声子散射得到增强,材料的晶格热导率进一步降低。在室温时,Si_(0.8)Ge_(0.2)B_(0.04)的晶格热导率为~4Wm~(-1) K~(-1)。由于掺杂后电导率提高,热导率降低,因此热电优值zT得到了提高。在850K时,Si_(0.8)Ge_(0.2)B_(0.04)的最大热电优值为0.42,与Si_(0.8)Ge_(0.2)B_(0.002)的样品相比,其优值提高了2.5倍左右。
[Abstract]:SiGe alloy thermoelectric material, as a traditional thermoelectric material at high temperature, has been paid more and more attention. In this study, the P-type doping of B in the ball-milled SiGe alloy can effectively increase the carrier concentration of the material and optimize the electrical properties of the material. The grain size of the material is reduced by ball milling, the scattering of phonons from grain boundaries is enhanced, and the lattice thermal conductivity of the material is reduced. In addition, B doping enhances the scattering of point defects and carrier-phonon scattering, and the lattice thermal conductivity of the materials decreases further. At room temperature, the lattice thermal conductivity of Si_ (0.8) Ge_ (0.2) B _ (0.04) is ~ 4Wmm ~ (- 1) K~ (- 1). Due to the increase of electrical conductivity and the decrease of thermal conductivity after doping, the thermoelectric advantage value (zT) has been improved. At 850 K, the maximum thermoelectric value of Si_ (0.8) Ge_ (0.2) B _ (0.04) is 0.42, compared with the sample of Si_ (0.8) Ge_ (0.2) B _ (0.002). Its excellent value has been increased by about 2.5 times.
【作者单位】: 浙江大学材料科学与工程学院;
【基金】:教育部博士点基金资助项目(20120101110082)
【分类号】:TB34

【相似文献】

相关期刊论文 前10条

1 ;Fabrication of high quality strained SiGe on Si substrate by RPCVD[J];Chinese Science Bulletin;2012年15期

2 王凤娥;硅集成电路用SiGe/Si异质结构材料及其制备技术[J];稀有金属;2003年06期

3 孙伟峰;叶志镇;赵炳辉;朱丽萍;;应用于无线电发射领域的第二代SiGe技术进展[J];材料导报;2005年11期

4 TSIEN Peihsin;Electron irradiation effects on DC electrical performances of SiGe HBT in a comparison with Si BJT[J];Rare Metals;2004年04期

5 Peihsin TSIEN;Electrical Performance of Electron Irradiated SiGe HBT and Si BJT[J];Journal of Materials Science & Technology;2004年06期

6 刘国军;叶志镇;吴贵斌;孙伟峰;赵星;赵炳辉;;SiGe/Si异质结光电器件[J];材料导报;2006年01期

7 方春玉;蔡坤煌;;氧化SiGe/Si多量子阱制备Si基SiGe弛豫衬底[J];光谱实验室;2009年06期

8 ;High Quality SiGe Layer Deposited by a New Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition System[J];Journal of Materials Science & Technology;2000年01期

9 ;Bulk single crystal growth of SiGe by PMCZ method[J];Rare Metals;2003年03期

10 ;Comparison of neutron irradiation effects on the electrical performances of SiGe HBT and SiBJT[J];Rare Metals;2003年01期

相关会议论文 前10条

1 刘志弘;;SiGe HBT及电路的发展状况[A];集成电路配套材料研讨会及参展资料汇编[C];2004年

2 蔡坤煌;张永;李成;赖虹凯;陈松岩;;氧化法制备SiGe弛豫缓冲层及其表征[A];第十六届全国半导体物理学术会议论文摘要集[C];2007年

3 柳伟达;周旗钢;何自强;;RPCVD生长SiGe薄膜及其性能研究[A];TFC’09全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2009年

4 王扬;张万荣;谢红云;金冬月;张蔚;何丽剑;沙永萍;;多发射指分段结构功率SiGe HBT的优化设计[A];2007年全国微波毫米波会议论文集(上册)[C];2007年

5 石瑞英;蒲林;程兴华;谭开州;杨晨;刘轮才;王健安;龚敏;;SiGe HBT抗γ辐照机理研究[A];第十六届全国半导体物理学术会议论文摘要集[C];2007年

6 赵丽霞;高国智;陈秉克;袁肇耿;张鹤鸣;;组分渐变的SiGe HBT材料的生长[A];2010’全国半导体器件技术研讨会论文集[C];2010年

7 沙永萍;张万荣;谢红云;;SiGe HBT的高频噪声相关性模型[A];2007年全国微波毫米波会议论文集(上册)[C];2007年

8 林晓玲;孔学东;恩云飞;章晓文;姚若河;;SiGe HBT工艺结构及失效分析[A];2007'第十二届全国可靠性物理学术讨论会论文集[C];2007年

9 Jie Yu;Chong Wang;Yu Yang;;Progress on the Numerical Calculation of Electrical Characteristics of Strained SiGe Channel p-MOSFET[A];Proceedings of 2012 China Functional Materials Technology and Industry Forum[C];2012年

10 黄惠敏;韦妮莉;罗文婷;郑佩燕;孙宝清;;常见食物过敏原sIgE检测分析[A];中华医学会呼吸病学年会——2013第十四次全国呼吸病学学术会议论文汇编[C];2013年

相关重要报纸文章 前4条

1 余卫华;SiGe半导体推出全新射频前端模块 实现无线多媒体应用[N];电子资讯时报;2008年

2 鸣秦;IBM与泰克合作开发出SiGe芯片[N];计算机世界;2005年

3 高鸣矫 DigiTimes;SiGe半导体首款EDR蓝牙功率放大器[N];电子资讯时报;2006年

4 SiGe半导体企业及业务发展副总裁 John Brewer;RF技术瞄准智能能源[N];中国电子报;2010年

相关博士学位论文 前9条

1 徐文婷;Si、Ge、SOI中SiGe纳米晶的生长及其特性研究[D];北京有色金属研究总院;2013年

2 胡辉勇;微波功率SiGe HBT关键技术研究[D];西安电子科技大学;2006年

3 张永;微波功率SiGe HBT与基于虚衬底的SiGe HPT的研制[D];厦门大学;2009年

4 黄文韬;SiGe/Si外延与SiGe HBT微波单片放大电路研究[D];清华大学;2004年

5 韩波;射频微波SiGe HBT建模与参数提取技术研究[D];华东师范大学;2012年

6 杨沛锋;Si/SiGe异质结器件研究[D];电子科技大学;2002年

7 李鹏飞;SiGe基材料紧束缚势模型的发展及第一性原理研究[D];中国科学技术大学;2013年

8 徐小波;SOI SiGe HBT性能与结构设计研究[D];西安电子科技大学;2012年

9 张滨;SiGe HBT器件及其在LNA电路中的应用研究[D];西安电子科技大学;2013年

相关硕士学位论文 前10条

1 李利明;慢性荨麻疹患者户尘螨sIgE与IL-4的表达及意义[D];山西医科大学;2015年

2 刘默寒;典型SiGe HBTs的总剂量辐射效应研究[D];新疆大学;2015年

3 钟怡;20GHz SiGe HBT器件设计与工艺研究[D];电子科技大学;2014年

4 赵迪;超薄SiGe虚拟衬底的制备与建模[D];电子科技大学;2015年

5 杨超;SOI应变SiGe BiCMOS关键技术研究[D];西安电子科技大学;2014年

6 时炯;SiGe半导体的制备和表征及温差电偶臂尺寸设计[D];哈尔滨工业大学;2016年

7 刘言军;局部tIgE和真菌sIgE在鼻窦炎症性疾病中的表达及临床意义[D];安徽医科大学;2016年

8 王建敏;SiGe工艺RoF模拟直调激光驱动器设计[D];东南大学;2016年

9 谭静;SiGe HCMOS IC关键工艺技术研究[D];电子科技大学;2006年

10 魏欢;SiGe异质结双极晶体管及其集成电路的研究[D];北京工业大学;2000年



本文编号:2448487

资料下载
论文发表

本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/cailiaohuaxuelunwen/2448487.html


Copyright(c)文论论文网All Rights Reserved | 网站地图 |

版权申明:资料由用户ea48c***提供,本站仅收录摘要或目录,作者需要删除请E-mail邮箱bigeng88@qq.com