氮化碳粉体的制备及其场发射性能分析
【学位授予单位】:西北大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2018
【分类号】:TQ127.16;TB383.3
【图文】:
图 1-1 半导体能带弯曲示意图体能带弯曲,电子转移到导带中,而宽禁带半导体具有负的电子亲逸出。表面态[23]对半导体场发射的影响也是要考虑的。材料的表面其电子状态与体内不同,因而在半导体禁带中产生附加的能级,或挂键。在外加的电场下,半导体的表面势垒高度和费米能级降低。不平衡的表面能级[24]。表面能级产生表面电荷,在表面区域产生内的电场,导致屏蔽。因此,表面态的存在使外加电场产生屏蔽作用[化碳材料概述化碳的发现碳(C3N4)是实验室合成的而不是天然物质,最早报道的时间在 19 世通过对硫氰酸盐[27, 28]、三嗪化合物[29]和七嗪化合物[30]等进行热解制
第一章 绪论1.3.2 氮化碳材料的理论结构Liu 和 Cohen 理论计算得出了 -C3N4的晶体结构[45],极大地激发了研究人员的究热情。1996 年,D.M.Teter 和 R.J.Hemley[46]利用第一性赝势能带法通过计算认为化碳有 5 种结构类型,即 相、 相、立方相、准立方相以及类石墨相[47]。除了类石相外,其他 4 种结构物质的硬度都可以与金刚石相比拟[48]。类石墨相密度最低,能也最低;立方晶相体积最小,密度最高,其能量也比类石墨相高 0.13eV[49]。在这 5 C3N4结构中,类石墨相最稳定。在硬质相的C3N4结构中, 相最稳定。
【参考文献】
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本文编号:2726035
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