当前位置:主页 > 科技论文 > 材料论文 >

钽酸锶铋薄膜的铁电和阻变性能及其多值存储特性

发布时间:2020-07-03 06:15
【摘要】:SrBi2Ta209(SBT)材料是一种类钙钛矿结构的铁电材料,具有优异的抗疲劳特性,且不含铅等重金属,对环境无污染;同时,SBT材料作为一种三元氧化物具有成为阻变介质的潜力,经过多次的实验探索,发现基于Pt/SBT/Pt结构的器件具有优异的双极性阻变性能。因此,基于Pt/SBT/Pt的器件同时具有铁电极化翻转特性和电阻转变特性,利用这两种转变特性可以实现多值存储。本文采用溶胶凝胶法制备SBT薄膜,通过扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM),X射线衍射仪(XRD)等设备来表征薄膜的形貌和结构,利用铁电分析仪来测试分析薄膜的铁电性能,利用半导体分析仪来测试分析薄膜的半导体性能和阻变性能。具体工作内容和成果总结如下:(1)以Pt(111)/Ti/Si02/Si为衬底,通过溶胶凝胶法制备了 SBT薄膜。通过对比实验发现:在750 °C的退火温度下所制备的SBT薄膜具有良好的铁电性能。SEM和AFM的测试结果显示SBT薄膜的厚度为280 rnm,表面光滑平整,无明显裂纹和缺陷,粗糙度大约为10nm,晶粒紧密生长,晶粒长度约为250nm。XRD测试显示SBT薄膜是沿(115)方向择优取向的多晶薄膜,薄膜与Pt(111)衬底电极之间的晶格匹配良好。(2)通过直流溅射制备出SBT薄膜的上电极,形成Pt/SBT/Pt结构,其铁电性能分析显示:在室温下,扫描电压为20 V时,SBT薄膜的剩余极化2Pr趋于饱和,达到35μC/cm2,矫顽场2Ec大约为248.5 kV/cm,同时SBT薄膜经过109次的极化翻转无明显的疲劳现象,经过104 s的测试表现出良好的保持性能。(3)Pt/SBT/Pt器件具有优良的双极性阻变性能,在限制电流Icc为0.05mA时,其操作电压VSet为11.3 V,VReret为-8.5V。Pt/SBT/Pt器件具有良好的循环耐受性,经过103次高低阻态的转变,其高低阻态之间的存储窗口始终大于103。器件在低阻态时符合欧姆导电规律,在高阻态时的导电规律与空间限制电荷导电机理(SCLC)相吻合。Pt/SBT/Pt器件的电阻转变是基于氧空位导电细丝的形成和破灭,但是其实质是氧空位的氧化还原反应。(4)Pt/SBT/Pt器件在0 V → +14 V →-14 V → 0 V的周期性扫描电压下依次经历了四种存储状态,分别为铁电极化向上和高阻态(FPU+HRS),铁电极化向上和低阻态(FPU+LRS),铁电极化向下和低阻态(FPD+LRS),铁电极化向下和高阻态(FPD+HRS),其中正向矫顽电压(Vc)、正向操作电压(Vset)、反向矫顽电压(-Vc)和反向操作电压(Vreset)为四种存储状态的分界点,即四值存储状态的切换转变电压。在Vc、-Vc处,Pt/SBT/Pt器件发生铁电极化翻转;在Vset、Vreset处,Pt/SBT/Pt器件发生阻态的转变。所以可以控制扫描电压来切换器件的存储状态,实现存储数据的写入。(5)SBT薄膜可作为栅介质应用于场效应晶体管中,通过SBT薄膜的极化翻转对场效应晶体管进行调控,实现晶体管的导通和关闭。器件的转移特性曲线都呈现出蝴蝶曲线的形状,在10 V的栅压扫描范围下存在大约7 V的存储窗口,并且存储窗口随着栅压扫描范围的缩小而缩小。
【学位授予单位】:湘潭大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2018
【分类号】:TB383.2
【图文】:

电材料


gQQ邋I邋I逦.邋I邋.邋I邋.逦I邋.逦I逦.邋1逦.逦I邋.邋I邋.逡逑25逦50逦75逦100逦125逦150逦175逦200逦225逡逑Temperature邋(°C)逡逑图1.3邋BaTiwSno.A,在不同频率下的介电温谱151逡逑电材料的分类逡逑

晶体结构,钙钛矿型,铁电材料,顺电相


b逦(a)逦(b)逡逑图1.4邋PbTi03的晶体结构图:(a)铁电相,(b)顺电相[6]逡逑(1)钙钛矿型:钙钛矿型铁电材料是目前应用最广泛、数量最多的一类铁电材料

【参考文献】

相关期刊论文 前10条

1 杨志远;杨水金;;扫描电子显微镜在无机材料表征中的应用[J];湖北师范学院学报(自然科学版);2015年04期

2 马景灵;任风章;孙浩亮;;磁控溅射镀膜技术的发展及应用[J];中国科教创新导刊;2013年29期

3 徐井华;李强;;原子力显微镜的工作原理及其应用[J];通化师范学院学报;2013年02期

4 李芬;朱颖;李刘合;卢求元;朱剑豪;;磁控溅射技术及其发展[J];真空电子技术;2011年03期

5 马礼敦;;多功能X射线衍射仪的由来与发展(上)[J];理化检验(物理分册);2010年08期

6 余东海;王成勇;成晓玲;宋月贤;;磁控溅射镀膜技术的发展[J];真空;2009年02期

7 杨西;杨玉华;;化学气相沉积技术的研究与应用进展[J];甘肃水利水电技术;2008年03期

8 施展;王翠萍;刘兴军;南策文;;基于磁电复合材料的四态存储器[J];科学通报;2008年10期

9 杨新萍;;X射线衍射技术的发展和应用[J];山西师范大学学报(自然科学版);2007年01期

10 江辉明,叶志清,曾明生;脉冲激光沉积(PLD)机理分析及其应用[J];江西师范大学学报(自然科学版);2005年01期

相关博士学位论文 前2条

1 陈超;新型阻变存储器材料及其电阻转变机理研究[D];清华大学;2013年

2 肖永光;铁电场效应晶体管的保持性能与负电容效应研究[D];湘潭大学;2013年

相关硕士学位论文 前1条

1 王烽;BNTM铁电栅石墨烯场效应晶体管的制备及性能研究[D];湘潭大学;2016年



本文编号:2739304

资料下载
论文发表

本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/cailiaohuaxuelunwen/2739304.html


Copyright(c)文论论文网All Rights Reserved | 网站地图 |

版权申明:资料由用户eb9ed***提供,本站仅收录摘要或目录,作者需要删除请E-mail邮箱bigeng88@qq.com