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宏孔导电网络架构下的纳米石墨烯—氢氧化钴

发布时间:2017-04-08 21:12

  本文关键词:宏孔导电网络架构下的纳米石墨烯—氢氧化钴,由笔耕文化传播整理发布。


【摘要】:宏多孔硅是基于微电子机械系统技术,通过清洗、氧化、光刻、刻蚀等标准工艺实验步骤,制备的形状规则的理想三维结构,大比表面积和高深宽比是此结构的优势。用作微型储能器件的基础结构时,宏多孔硅展现了优异的性能。宏多孔硅导电性极差,在其表面与通道内沉积一层镍集流层来增加结构的导电性,形成宏孔导电网络(MECN)。传统沉积方法制备的宏孔导电网络,侧壁镍层沉积不均匀、表面与通道电阻不等,本文优化了集流层沉积方法,利用压差原理在宏多孔硅上进行液流无电镀,改善了侧壁集流层沉积不均匀的现象。液流镀镍构成的宏孔导电网络可以增强活性物质的粘附性、扩大储能器件的容量并提高循环测试的稳定性。石墨烯是当今研究的热门,活性物质加入纳米石墨烯可以直接进行有效、快速的吸附脱附反应并大大的提高样品的反应速度;氢氧化钴具有良好的电化学特性,在氧化还原反应的活性上具有很大的优势,通过水热法制备的氢氧化钴呈层状、花状结构,可以提供较大的容量。本文主要对制备的两种结构进行对比:Co(OH)2/MECN结构与Co(OH)2/nano-graphene/MECN结构,与Co(OH)2/MECN结构相比,Co(OH)2/nano-graphene/MECN结构作为电极时的容量略减,为3.522F/cm2 (880.5F/g),但在循环稳定性方面测试经过5000个循环后的衰减仅为1%,并且在进行循环伏安测试时,Co(OH)2/nano-graphene/MECN电极的扫速大大的提高。
【关键词】:宏多孔硅 宏孔导电网络 液流沉积 纳米石墨烯/氢氧化钴 储能器件
【学位授予单位】:华东师范大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2016
【分类号】:TB332
【目录】:
  • 摘要6-7
  • ABSTRACT7-14
  • 第一章 绪论14-23
  • 1.1 微电子机械系统简介14-17
  • 1.1.1 微电子机械系统概念14-15
  • 1.1.2 微电子机械系统的发展历程15-16
  • 1.1.3 微电子机械系统的特点及应用16-17
  • 1.2 宏多孔硅简介17-21
  • 1.2.1 宏多孔硅的基本结构及形貌特征17-18
  • 1.2.2 宏多孔硅的制备原理及工艺流程18-20
  • 1.2.3 宏多孔硅的实际应用20-21
  • 1.3 本论文的主要工作21-23
  • 第二章 集流层与活性物质制备实验23-34
  • 2.1 集流层的制备23-26
  • 2.1.1 实验设备以及实验试剂23-24
  • 2.1.2 集流层制备方法24-26
  • 2.2 活性物质纳米石墨烯-氢氧化钴的制备26-30
  • 2.2.1 实验设备以及实验试剂27-28
  • 2.2.2 纳米石墨烯的制备方法28-29
  • 2.2.3 氢氧化钴的制备方法29-30
  • 2.3 表面形貌表征方法及性能测试方法30-33
  • 2.4 本章小结33-34
  • 第三章 宏孔导电网络工艺及优化研究34-43
  • 3.1 宏孔导电网络简介34
  • 3.2 宏孔导电网络的制备方法及详细制备过程34-36
  • 3.3 传统制备方法存在的问题及优化36-41
  • 3.3.1 传统制备方法存在的问题36-37
  • 3.3.2 宏孔导电网络的优化37-41
  • 3.4 本章小结41-43
  • 第四章 宏孔导电网络架构下的纳米石墨烯-氢氧化钴43-58
  • 4.1 活性物质简介43
  • 4.2 Co(OH)_2/MECN以及Co(OH)_2/NG/MECN结构的制备方法43-44
  • 4.3 Co(OH)_2/MECN结构与Co(OH)_2/NG/MECN结构的表面形貌44-48
  • 4.3.1 SEM表征45-46
  • 4.3.2 XRD表征46-47
  • 4.3.3 EDS表征47-48
  • 4.4 电化学工作站及样品电化学性能测试简介48-49
  • 4.5 Co(OH)_2/MECN以及Co(OH)_2/NG/MECN结构的电化学测试49-57
  • 4.5.1 循环伏安测试49-52
  • 4.5.2 恒流充放电测试52-53
  • 4.5.3 阻抗谱测试53-56
  • 4.5.4 循环稳定性测试56-57
  • 4.6 本章小结57-58
  • 第五章 总结与展望58-61
  • 5.1 总结58-59
  • 5.2 展望59-61
  • 参考文献61-65
  • 攻读学位期间发表的学术论文及专利目录65-66
  • 致谢66-67

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