温度与气压对脉冲PECVD沉积氧化铝薄膜的影响

发布时间：2020-12-28 13:49

　　在有机基体表面等离子体增强化学气相沉积（PECVD） Al₂O₃薄膜是提高其阻隔性能的有效方法,而高品质的Al₂O₃薄膜是提高阻隔性的关键因素之一。脉冲射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PECVD）可以实现比热化学气相沉积技术更宽的气体工作压力、更多的单体选择和更好的薄膜性能,适合于制备高质量的薄膜。本文报道采用脉冲RF-PECVD氧化铝薄膜,且对影响薄膜结构和性能的工艺参数进行研究。通过椭圆偏振仪测量Al₂O₃的生长速率和折射率;利用红外光谱、扫描电镜和原子力显微镜对沉积的Al₂O₃薄膜进行成分、结构、表面粗糙度和形貌分析、测量和表征;采用透湿仪测量在有机聚酯薄膜表面沉积Al₂O₃层的阻隔性能。结果表明:薄膜沉积过程中的工作气压和沉积温度对脉冲RF-PECVD薄膜性能影响较大,在一定的沉积温度范围内,沉积的Al₂O₃薄膜为... 

【文章来源】：真空科学与技术学报. 2020年07期 北大核心

【文章页数】：7 页

【文章目录】：
1 实验设备和薄膜表征方法
2 结果与讨论
3 结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]聚乙烯表面涂覆法长效亲水改性[J]. 蒋傲男,杨彪.  应用化工. 2019(02)

硕士论文
[1]氧化石墨烯表面改性聚乳酸薄膜的制备与性能研究[D]. 吴玲玲.浙江理工大学 2014



本文编号：2943865