磁控溅射制备透明导电Cu膜及WO 3 /Cu/WO 3 复合膜
发布时间:2021-01-14 23:48
在透明导电材料中,氧化物-金属-氧化物结构的三层膜具有简单的结构、良好的机械柔性、优良稳定的光电性能以及可大规模生产等特点,因此它逐渐成为一种潜在的铟锡氧化物(ITO)替代物。研究表明,中间金属层对三层膜的透明导电性能起主导作用,因此,本文首先采用射频磁控溅射法在三种沉积条件下(34W、Ar,34 W、Ar+H2和136 W、Ar)制备了一系列不同厚度的单层Cu膜,系统研究了溅射功率与引入H2对Cu膜的结构、表面形貌、光电性能以及空气中室温下时效稳定性的影响。然后,研究了N2气氛对Cu膜结构及光电性能的影响。最后,在对单层Cu膜的研究基础上,采用脉冲磁控溅射法沉积WO3层,并保持WO3层的沉积条件不变,制备WO3/Cu/WO3三层膜,探讨Cu层的沉积条件对三层膜的光电性能的影响。得到主要研究结果如下:(1)在纯Ar气氛下沉积Cu膜时,提高溅射功率可提高Cu膜的沉积速率和结晶度,降低Cu膜的表面粗糙度,增强导电性能和透光性,提高薄膜的稳...
【文章来源】:武汉科技大学湖北省
【文章页数】:81 页
【学位级别】:硕士
【文章目录】:
摘要
Abstract
第1章 绪论
1.1 引言
1.2 单层Cu膜的研究现状
1.3 氧化物-金属-氧化物结构的三层膜的研究现状
1.4 本课题的主要研究内容
第2章 实验
2.1 实验材料
2.2 薄膜的制备方法
2.2.1 溅射镀膜
2.2.2 薄膜制备
2.3 薄膜的分析表征方法
2.3.1 薄膜厚度的测量
2.3.2 薄膜表面形貌的表征
2.3.3 薄膜晶体结构的表征
2.3.4 薄膜电学性能的测试
2.3.5 薄膜光学性能的测试
第3章 溅射功率和沉积气氛对Cu膜的结构及光电性能的影响
2对Cu膜的结构及光电性能的影响"> 3.1 溅射功率与引入H2对Cu膜的结构及光电性能的影响
2对Cu膜结构的影响"> 3.1.1 溅射功率与引入H2对Cu膜结构的影响
2对Cu膜表面形貌的影响"> 3.1.2 溅射功率与引入H2对Cu膜表面形貌的影响
2对Cu膜电学性能的影响"> 3.1.3 溅射功率与引入H2对Cu膜电学性能的影响
2对Cu膜光学性能的影响"> 3.1.4 溅射功率与引入H2对Cu膜光学性能的影响
2气氛对Cu膜结构及光电性能的影响"> 3.2 N2气氛对Cu膜结构及光电性能的影响
2气氛对Cu膜结构的影响"> 3.2.1 N2气氛对Cu膜结构的影响
2气氛对Cu膜电学性能的影响"> 3.2.2 N2气氛对Cu膜电学性能的影响
2气氛对超薄Cu膜表面形貌的影响"> 3.2.3 N2气氛对超薄Cu膜表面形貌的影响
2气氛对超薄Cu膜电学性能的影响"> 3.2.4 N2气氛对超薄Cu膜电学性能的影响
2气氛对超薄Cu膜光学性能的影响"> 3.2.5 N2气氛对超薄Cu膜光学性能的影响
3.3 本章小结
3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响">第4章 Cu层的沉积条件对WO3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响"> 4.1 Cu层溅射功率对WO3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响
4.1.1 Cu层溅射功率对WO3/Cu表面形貌的影响
3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响"> 4.1.2 Cu层溅射功率对WO3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响"> 4.1.3 Cu层溅射功率对WO3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响"> 4.2 低溅射功率沉积Cu层时沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响
4.2.1 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu两层膜表面形貌的影响
3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响"> 4.2.2 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响"> 4.2.3 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响"> 4.3 高溅射功率沉积Cu层时沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响
4.3.1 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu两层膜表面形貌的影响
3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响"> 4.3.2 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响"> 4.3.3 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响
4.4 本章小结
第5章 结论
致谢
参考文献
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文
本文编号:2977787
【文章来源】:武汉科技大学湖北省
【文章页数】:81 页
【学位级别】:硕士
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摘要
Abstract
第1章 绪论
1.1 引言
1.2 单层Cu膜的研究现状
1.3 氧化物-金属-氧化物结构的三层膜的研究现状
1.4 本课题的主要研究内容
第2章 实验
2.1 实验材料
2.2 薄膜的制备方法
2.2.1 溅射镀膜
2.2.2 薄膜制备
2.3 薄膜的分析表征方法
2.3.1 薄膜厚度的测量
2.3.2 薄膜表面形貌的表征
2.3.3 薄膜晶体结构的表征
2.3.4 薄膜电学性能的测试
2.3.5 薄膜光学性能的测试
第3章 溅射功率和沉积气氛对Cu膜的结构及光电性能的影响
2对Cu膜的结构及光电性能的影响"> 3.1 溅射功率与引入H2对Cu膜的结构及光电性能的影响
2对Cu膜结构的影响"> 3.1.1 溅射功率与引入H2对Cu膜结构的影响
2对Cu膜表面形貌的影响"> 3.1.2 溅射功率与引入H2对Cu膜表面形貌的影响
2对Cu膜电学性能的影响"> 3.1.3 溅射功率与引入H2对Cu膜电学性能的影响
2对Cu膜光学性能的影响"> 3.1.4 溅射功率与引入H2对Cu膜光学性能的影响
2气氛对Cu膜结构及光电性能的影响"> 3.2 N2气氛对Cu膜结构及光电性能的影响
2气氛对Cu膜结构的影响"> 3.2.1 N2气氛对Cu膜结构的影响
2气氛对Cu膜电学性能的影响"> 3.2.2 N2气氛对Cu膜电学性能的影响
2气氛对超薄Cu膜表面形貌的影响"> 3.2.3 N2气氛对超薄Cu膜表面形貌的影响
2气氛对超薄Cu膜电学性能的影响"> 3.2.4 N2气氛对超薄Cu膜电学性能的影响
2气氛对超薄Cu膜光学性能的影响"> 3.2.5 N2气氛对超薄Cu膜光学性能的影响
3.3 本章小结
3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响">第4章 Cu层的沉积条件对WO3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响"> 4.1 Cu层溅射功率对WO3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响
4.1.1 Cu层溅射功率对WO3/Cu表面形貌的影响
3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响"> 4.1.2 Cu层溅射功率对WO3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响"> 4.1.3 Cu层溅射功率对WO3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响"> 4.2 低溅射功率沉积Cu层时沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响
4.2.1 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu两层膜表面形貌的影响
3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响"> 4.2.2 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响"> 4.2.3 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响"> 4.3 高溅射功率沉积Cu层时沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜光电性能的影响
4.3.1 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu两层膜表面形貌的影响
3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响"> 4.3.2 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜电学性能的影响
3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响"> 4.3.3 不同Cu层沉积气氛对WO3/Cu/WO3三层膜光学性能的影响
4.4 本章小结
第5章 结论
致谢
参考文献
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文
本文编号:2977787
本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/cailiaohuaxuelunwen/2977787.html