聚酰亚胺/氧化铝复合薄膜在电晕放电下的老化过程及击穿特点

发布时间：2021-03-02 09:01

　　为探讨电晕放电对复合薄膜绝缘的损伤过程,参照GB/T 22689—2008标准,利用扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDS）、红外光谱仪（FTIR）研究了PI/Al₂O₃薄膜在电晕放电下老化至击穿的整个过程。实验结果表明:随着电晕放电时间的延长,电晕破坏区的表面被破坏的越来越严重,表面的有机物逐渐减少,氧化铝越来越多,膨松的氧化铝在表面形成了连续覆盖层。电晕老化击穿后形成的击穿孔为20μm左右的圆形孔洞,定位击穿孔的位置发现击穿孔并不在电晕放电破坏的区域内,而在中心处不易散热的区域,这说明电晕老化击穿并不是传统的电击穿和电化学击穿引起的,而是由于电晕放电产生的热量积累引起材料发生了热击穿。 

【文章来源】：高电压技术. 2016,42(12)北大核心

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【参考文献】：
期刊论文
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博士论文
[1]无机纳米—聚酰亚胺复合薄膜介电性及耐电晕老化机理研究[D]. 张沛红.哈尔滨理工大学 2006



本文编号：3058996