磁控共溅射制备Si掺杂Al薄膜的应力研究

发布时间：2021-05-17 00:43

　　为研制真空紫外与极紫外波段Al基薄膜光学元件,详细研究了Al基薄膜的应力特性及其优化方法。利用应力实时测量装置对共溅射技术制备的5种不同Si掺杂质量分数（0、8.97%、16.49%、28.46%、45.73%）的Al-Si复合薄膜进行应力测试,并采用X射线衍射法表征薄膜的结晶状态。结果表明:Al薄膜中的应力表现为压应力,随着Si在Al中掺杂量的增加,Al中的压应力减小,并且Al的结晶度降低,Al（111）晶向的晶粒尺寸也减小,Al的结晶被抑制;当Si的掺杂质量分数从18.63%增大到31.57%时,Al中的压应力转变为张应力,且张应力随Si掺杂量的增加而进一步增大。本研究为制备Al基滤片、单层膜和多层膜元件提供了技术支撑,在极紫外光刻、同步辐射和天文观测领域具有重要的应用价值。 

【文章来源】：光学学报. 2020,40(14)北大核心EICSCD

【文章页数】：6 页

【文章目录】：
1 引 言
2 实 验
    2.1 薄膜制备工艺
    2.2 薄膜应力的实时测量
    2.3 薄膜的X射线反射与X射线衍射测量
3 分析与讨论
    3.1 Al-Si复合薄膜的厚度
    3.2 Al-Si复合薄膜的应力
    3.3 Al-Si复合薄膜的微结构分析
4 结 论


【参考文献】：
期刊论文
[1]低角度效应虹膜识别滤光片的研制[J]. 刘冬梅,岳鹏飞,付秀华,张静,曹洪玉,李爽.  光学学报. 2019(11)
[2]离子束溅射制备Nb2O5、Ta2O5和SiO2薄膜的光学、力学特性和微结构[J]. 袁文佳,沈伟东,郑晓雯,杨陈楹,章岳光,方波,沐雯,陈超楠,刘旭.  光学学报. 2017(12)
[3]多层薄膜沉积的应力仿真分析[J]. 李长安,杨明冬,全本庆,关卫林.  激光与光电子学进展. 2018(04)
[4]一种X射线成像型平响应低通滤波技术[J]. 袁铮,曹柱荣,朱效立,邓博,李晋,杨志文,洪才浩,刘慎业,杨家敏,赵屹东.  光学学报. 2016(05)
[5]北京同步辐射装置4B7B软X射线标定束线的性能研究及应用[J]. 易荣清,赵屹东,王秋平,郑雷,杨家敏,何小安,李朝光,江少恩,丁永坤,崔明启.  光学学报. 2014(10)
[6]磁控溅射制备的W,WSi2,Si单层膜和W/Si,WSi2/Si多层膜应力[J]. 黄秋实,李浩川,朱京涛,王晓强,蒋励,王占山,唐永建.  强激光与粒子束. 2011(06)
[7]5～40nm波段高次谐波的定量研究[J]. 周洪军,王冠军,郑津津,霍同林,邱克强.  光学学报. 2010(09)
[8]利用掠入射X射线技术表征高分子薄膜[J]. 张吉东,莫志深.  大学化学. 2009(02)
[9]自支撑薄膜制备的研究进展[J]. 高凤菊,郑瑞廷,程国安.  材料导报. 2007(06)
[10]薄膜应力研究[J]. 邵淑英,范正修,范瑞瑛,邵建达.  激光与光电子学进展. 2005(01)



本文编号：3190730