改进遗传算法在CMP终点检测的应用

发布时间：2021-06-06 00:41

　　提出了一种基于反射法的化学机械抛光（CMP）在线终点判定方法。首先通过改进的单纯形混合遗传算法（GA）,对SiO₂薄膜的膜厚与折射率进行了拟合,再以200～1 200 nm波段内反射率平均值作为特征值,得到了不同膜厚条件下的反射率平均值参照表。以实时反射率与预设膜厚反射率的差方和、特征值大小及其变化趋势这2个条件作为CMP终点判定条件。实验结果表明:混合算法拟合膜厚平均相对误差小于0.21%,折射率平均相对误差小于1.07%;特征值计算速度快,满足在线动态抛光的时间要求。 

【文章来源】：计量学报. 2020,41(10)北大核心CSCD

【文章页数】：7 页

【部分图文】：

薄膜的反射与透射图

不同膜厚下反射率随波长的变化关系图

式中:a=n1-1;b=n1+1;c=n1-n2;d=n1+n2;e=n1-n22;f=n1+n22;g=64n2(n1-1)2n4;x=e-αd，α是吸收系数，α=4!k/λ。在某一波段范围内，2个连续奇极值点所对应的波长分别为λ1、λ3，可得到:

【参考文献】：
期刊论文
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本文编号：3213235