电压对铝基复合材料表面微弧氧化膜性能的影响
发布时间:2021-06-07 02:49
对铝基复合材料进行了微弧氧化处理。采用扫描电子显微镜、能谱仪、电化学工作站、涂层附着力自动划痕仪等仪器,研究了电压对微弧氧化膜性能的影响。结果表明:当电压为400 V时,微弧氧化膜最为平整、均匀,耐蚀性最好,表面结合力最强。
【文章来源】:电镀与环保. 2020,40(03)北大核心CSCD
【文章页数】:3 页
【部分图文】:
图2为铝基复合材料表面微弧氧化膜的能谱分??析结果
糙且不均匀。这是因为击穿总发生在相对薄弱??的区域,而相对较厚的区域若要被击穿,则需要更高??的电压[7]。当电压为380?V时,微弧氧化膜逐渐变??得平整。当电压为400?V时,微弧氧化膜表面开始??出现片状组织,此时微弧氧化膜表面最为平整。当??电压达到420?V时,高压使得微弧氧化膜被轻微灼??烧。可见,当电压为400?V时,微弧氧化膜表面最为??平整、均匀,对基体的保护作用最好。??(c)?400?V?(d)?420?V??图1不同电压下所得微弧氧化膜的表面形貌??图2为铝基复合材料表面微弧氧化膜的能谱分??析结果。微弧氧化膜中,0的质量分数为35.?54%,??Si的质量分数为26.?35%,Na的质量分数为??19.64%,八1的质量分数为12.32%,(:的质量分数??为?4.?10%。??C??AI??Si??J??Na??v??????1?2??EfkeV??图2铝基复合材料表面微弧氧化膜的能谱分析结果??2.2微弧氧化膜的耐蚀性??图3为不同电压下所得微弧氧化膜的极化曲??线。由图3可知:基体的自腐蚀电流密度最高。随??
;当电压为400?V时,微弧氧化膜所能承受的最??大压强到达最大值。可见,当电压为400?V时,微弧??氧化膜的表面结合力最好。??着电压的升高,自腐蚀电流密度逐渐降低。当电压??为400?V时,自腐蚀电流密度最低。但当电压达到??420?V时,自腐蚀电流密度又升高。这是由于在420??V高压处理过程中,火花放电的通道逐渐增大,导??致微弧氧化膜变得疏松、多孔。另外,由于自腐蚀电??位变化较小,所以忽略其对结果的影响。可见,400??V下所得微弧氧化膜的耐蚀性最好。??貌。由图1可知:当电压为360?V时,微弧氧化膜表??面粗糙且不均匀。这是因为击穿总发生在相对薄弱??的区域,而相对较厚的区域若要被击穿,则需要更高??的电压[7]。当电压为380?V时,微弧氧化膜逐渐变??得平整。当电压为400?V时,微弧氧化膜表面开始??出现片状组织,此时微弧氧化膜表面最为平整。当??电压达到420?V时,高压使得微弧氧化膜被轻微灼??烧。可见,当电压为400?V时,微弧氧化膜表面最为??平整、均匀,对基体的保护作用最好。??(c)?400?V?(d)?420?V??图1不同电压下所得微弧氧化膜的表面形貌??图2为铝基复合材料表面微弧氧化膜的能谱分??析结果。微弧氧化膜中,0的质量分数为35.?54%,??Si的质量分数为26.?35%,Na的质量分数为??19.64%,八1的质量分数为12.32%,(:的质量分数??为?4.?10%。??C??AI??Si??J??Na??v??????1?2??EfkeV??图2铝基复合材料表面微弧氧化膜的能谱分析结果??2.2微弧氧化膜的耐蚀性??图3为
【参考文献】:
期刊论文
[1]正向电压对ZK60镁合金微弧氧化过程及膜层的影响[J]. 杜翠玲,陈静,汤莉,芦笙,卢向雨,许蕾. 中国有色金属学报. 2014(05)
[2]电压对AZ31镁合金微弧氧化涂层微观结构及腐蚀性能的影响[J]. 顾艳红,蔡晓君,宁成云,熊文名,岳文,郝保红. 中国表面工程. 2012(06)
[3]正向电压对镁合金微弧氧化膜层相结构的影响[J]. 熊文名,宁成云,顾艳红,张京. 稀有金属材料与工程. 2011(12)
[4]铝基复合材料微弧氧化陶瓷膜的组成与性能[J]. 辛世刚,宋力昕,赵荣根,胡行方. 无机材料学报. 2006(01)
[5]镁合金微弧氧化处理电压对陶瓷层的影响[J]. 陈宏,郝建民,王利捷. 表面技术. 2004(03)
[6]微弧氧化过程中电流和电压变化规律的探讨[J]. 李淑华,程金生,尹玉军,辛文彤,杨润泽. 特种铸造及有色合金. 2001(03)
[7]表面处理对铝基复合材料耐蚀性的影响[J]. 冯祖德,陈菲,林昌健,杜荣归. 厦门大学学报(自然科学版). 2000(01)
本文编号:3215693
【文章来源】:电镀与环保. 2020,40(03)北大核心CSCD
【文章页数】:3 页
【部分图文】:
图2为铝基复合材料表面微弧氧化膜的能谱分??析结果
糙且不均匀。这是因为击穿总发生在相对薄弱??的区域,而相对较厚的区域若要被击穿,则需要更高??的电压[7]。当电压为380?V时,微弧氧化膜逐渐变??得平整。当电压为400?V时,微弧氧化膜表面开始??出现片状组织,此时微弧氧化膜表面最为平整。当??电压达到420?V时,高压使得微弧氧化膜被轻微灼??烧。可见,当电压为400?V时,微弧氧化膜表面最为??平整、均匀,对基体的保护作用最好。??(c)?400?V?(d)?420?V??图1不同电压下所得微弧氧化膜的表面形貌??图2为铝基复合材料表面微弧氧化膜的能谱分??析结果。微弧氧化膜中,0的质量分数为35.?54%,??Si的质量分数为26.?35%,Na的质量分数为??19.64%,八1的质量分数为12.32%,(:的质量分数??为?4.?10%。??C??AI??Si??J??Na??v??????1?2??EfkeV??图2铝基复合材料表面微弧氧化膜的能谱分析结果??2.2微弧氧化膜的耐蚀性??图3为不同电压下所得微弧氧化膜的极化曲??线。由图3可知:基体的自腐蚀电流密度最高。随??
;当电压为400?V时,微弧氧化膜所能承受的最??大压强到达最大值。可见,当电压为400?V时,微弧??氧化膜的表面结合力最好。??着电压的升高,自腐蚀电流密度逐渐降低。当电压??为400?V时,自腐蚀电流密度最低。但当电压达到??420?V时,自腐蚀电流密度又升高。这是由于在420??V高压处理过程中,火花放电的通道逐渐增大,导??致微弧氧化膜变得疏松、多孔。另外,由于自腐蚀电??位变化较小,所以忽略其对结果的影响。可见,400??V下所得微弧氧化膜的耐蚀性最好。??貌。由图1可知:当电压为360?V时,微弧氧化膜表??面粗糙且不均匀。这是因为击穿总发生在相对薄弱??的区域,而相对较厚的区域若要被击穿,则需要更高??的电压[7]。当电压为380?V时,微弧氧化膜逐渐变??得平整。当电压为400?V时,微弧氧化膜表面开始??出现片状组织,此时微弧氧化膜表面最为平整。当??电压达到420?V时,高压使得微弧氧化膜被轻微灼??烧。可见,当电压为400?V时,微弧氧化膜表面最为??平整、均匀,对基体的保护作用最好。??(c)?400?V?(d)?420?V??图1不同电压下所得微弧氧化膜的表面形貌??图2为铝基复合材料表面微弧氧化膜的能谱分??析结果。微弧氧化膜中,0的质量分数为35.?54%,??Si的质量分数为26.?35%,Na的质量分数为??19.64%,八1的质量分数为12.32%,(:的质量分数??为?4.?10%。??C??AI??Si??J??Na??v??????1?2??EfkeV??图2铝基复合材料表面微弧氧化膜的能谱分析结果??2.2微弧氧化膜的耐蚀性??图3为
【参考文献】:
期刊论文
[1]正向电压对ZK60镁合金微弧氧化过程及膜层的影响[J]. 杜翠玲,陈静,汤莉,芦笙,卢向雨,许蕾. 中国有色金属学报. 2014(05)
[2]电压对AZ31镁合金微弧氧化涂层微观结构及腐蚀性能的影响[J]. 顾艳红,蔡晓君,宁成云,熊文名,岳文,郝保红. 中国表面工程. 2012(06)
[3]正向电压对镁合金微弧氧化膜层相结构的影响[J]. 熊文名,宁成云,顾艳红,张京. 稀有金属材料与工程. 2011(12)
[4]铝基复合材料微弧氧化陶瓷膜的组成与性能[J]. 辛世刚,宋力昕,赵荣根,胡行方. 无机材料学报. 2006(01)
[5]镁合金微弧氧化处理电压对陶瓷层的影响[J]. 陈宏,郝建民,王利捷. 表面技术. 2004(03)
[6]微弧氧化过程中电流和电压变化规律的探讨[J]. 李淑华,程金生,尹玉军,辛文彤,杨润泽. 特种铸造及有色合金. 2001(03)
[7]表面处理对铝基复合材料耐蚀性的影响[J]. 冯祖德,陈菲,林昌健,杜荣归. 厦门大学学报(自然科学版). 2000(01)
本文编号:3215693
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