插层法制备g-C 3 N 4 /高岭石复合材料及其光学性能

发布时间：2021-06-09 18:20

　　高岭石表面与层间具有较高的活性和良好的规范性,因而适合对其进行化学修饰,在催化剂负载方面值得深入研究。本文以甲氧基嫁接的高岭石为前躯体,采用置换插层法制备出高岭石/三聚氰胺插层复合物,进一步在550℃煅烧获得g-C₃N₄/高岭石复合光催化剂。利用X射线衍射、傅里叶红外和热重-差热分析等手段对复合光催化材料进行表征,并对其光催化性能进行研究。结果表明,当高岭石与光催化剂前驱体三聚氰胺质量比为1∶1和1∶2时,较难缩聚得到g-C₃N₄;然而,当高岭石与三聚氰胺质量比为1∶3、1∶4、1∶5时,可获得不同g-C₃N₄占比的复合材料,其整体分散状况因高岭石的加入而有效改善,这表明高岭石的加入能有效避免g-C₃N₄的团聚。所制备的高岭石负载石墨相氮化碳光催化材料具有较好的光学性能,在探索经济、高效、绿色矿物基复合光催化剂方面研究具有重要意义。 

【文章来源】：人工晶体学报. 2017,46(07)北大核心CSCD

【文章页数】：6 页

【文章目录】：
1 引言
2 实验
    2.1 实验原料
    2.2 高岭石/三聚氰胺插层复合材料制备
    2.3 g-C3N4/高岭石复合光催化材料制备
    2.4 材料表征
3 结果与讨论
    3.1 高岭石/三聚氰胺插层复合材料
    3.2 g-C3N4/高岭石复合光催化材料
4 结论



本文编号：3221085