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微纳结构成像复合控制系统技术研究

发布时间:2021-07-06 20:45
  20世纪以来,随着人们对纳米科技的深入研究,纳米级的元器件得到了广泛的应用。纳米成像控制系统作为研究纳米科技的重要工具,其成像深度小,限制了纳米成像控制系统的应用范围,阻碍了纳米科技深入发展的进程。为提高纳米成像控制系统的成像深度,本文首先搭建了粗位移成像平台与精位移成像平台相结合的微纳结构成像复合控制系统。然后,采用恒定电压值的方法建立了复合控制系统的数学模型。同时,为提高复合控制系统的动态性能,采用自适应模糊控制方法对PI参数进行优化。最后,验证复合控制系统以及控制方法的可行性。成像实验结果表明:搭建的微纳结构成像复合控制系统可实现微纳米结构的样品成像,且成像深度可达到1300nm,与纳米成像控制系统相比提高了成像深度,且光栅结构清晰,整体和边缘信息比较完整。基于自适应模糊PI控制方法获得的光栅形貌图像质量优于PI控制方法获得的光栅形貌图像质量。本文研究的微纳结构成像复合控制系统不仅保留了纳米成像控制系统的成像精度,同时利用粗位移成像平台提高了成像深度,实现了对深度较大样品表面形貌的全方位呈现,极大的拓展了微纳结构成像复合控制系统的应用范围。 

【文章来源】:长春理工大学吉林省

【文章页数】:65 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

微纳结构成像复合控制系统技术研究


样品成像式1)样品成像式:如图2.6保持悬臂梁的位置不变,驱动精位移成像平台带动被测样品在水平方向有规律的运动,纵向精位移成像平台和粗位移成像平台相互配合做反

成像,探针,平台


第2章微纳结构成像复合控制系统研究92.2.2成像方式传统纳米成像控制系统中将成像方式划分为:图2.6样品成像式1)样品成像式:如图2.6保持悬臂梁的位置不变,驱动精位移成像平台带动被测样品在水平方向有规律的运动,纵向精位移成像平台和粗位移成像平台相互配合做反馈运动。这种方式控制简单容易实现。图2.7探针成像式2)探针成像式:如图2.7悬臂梁被固定在成像平台上。在扫描时被测样品保持不动,精位移成像平台带动悬臂梁在被测样品的水平方向进行有规律的运动,纵向精位移成像平台和粗位移成像平台相互配合做反馈运动。图2.8样品扫描探针反馈式3)样品扫描探针反馈式:如图2.8悬臂梁被固定在只做纵向反馈的精位移成像平台和粗位移成像平台上,另外一个精位移成像平台带动样品在水平方向运动。本文选用的扫描成像方式为简单容易实现的样品成像方式。2.3微纳结构成像复合控制系统微纳结构成像复合控制系统的成像性能是由其各个组成模块的工作性能共同决定,每一个模块的工作性能都会影响整个系统的成像性能。因此,本小节将对各个组成模块进行分析。

探针,样品,成像,平台


第2章微纳结构成像复合控制系统研究92.2.2成像方式传统纳米成像控制系统中将成像方式划分为:图2.6样品成像式1)样品成像式:如图2.6保持悬臂梁的位置不变,驱动精位移成像平台带动被测样品在水平方向有规律的运动,纵向精位移成像平台和粗位移成像平台相互配合做反馈运动。这种方式控制简单容易实现。图2.7探针成像式2)探针成像式:如图2.7悬臂梁被固定在成像平台上。在扫描时被测样品保持不动,精位移成像平台带动悬臂梁在被测样品的水平方向进行有规律的运动,纵向精位移成像平台和粗位移成像平台相互配合做反馈运动。图2.8样品扫描探针反馈式3)样品扫描探针反馈式:如图2.8悬臂梁被固定在只做纵向反馈的精位移成像平台和粗位移成像平台上,另外一个精位移成像平台带动样品在水平方向运动。本文选用的扫描成像方式为简单容易实现的样品成像方式。2.3微纳结构成像复合控制系统微纳结构成像复合控制系统的成像性能是由其各个组成模块的工作性能共同决定,每一个模块的工作性能都会影响整个系统的成像性能。因此,本小节将对各个组成模块进行分析。

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本文编号:3268940

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