FIB/SEM双束系统在微纳米材料电学性能测试中的应用

发布时间：2021-08-13 19:39

　　电学性能测试是微纳米材料物性研究的重要组成部分,测试电极的制备是其中一个难点。光学光刻、电子束曝光或聚焦离子束加工是三种不同的电极制备技术。每种技术都有自己的特点,采用何种技术取决于微纳米材料的尺寸、形态及测试目的等诸多因素。此外,选择适当的制样方法对后续的电学性能测试也很关键。本文以一台配备了电子束曝光功能附件的聚焦离子束（FIB）/扫描电子显微镜（SEM）双束系统为工具,结合光学光刻等其它加工技术,详细介绍了其针对不同类型微纳米材料进行电极制备的过程和方法。 

【文章来源】：电子显微学报. 2016,35(01)CSCD

【文章页数】：6 页

【文章目录】：
1 电极制备总体过程
    1. 1 材料分散前硅片上已有电极极板
    1. 2 材料分散前硅片上没有电极极板
2 不同类型材料的电极制备工艺
    2. 1 离子束沉积
    2. 2 电子束沉积
    2. 3 离子束沉积与电子束沉积联合加工
    2. 4电子束曝光( electron beam lithography,EBL)
    2. 5 电子束曝光与Pt沉积功能联合
3 各种电极制备方法的选取与特点
4 制样方法的影响
5 结论



本文编号：3341023