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不同热处理气氛下制备CDC涂层

发布时间:2021-08-14 23:20
  碳化物衍生碳(CDC)以其独特的特性被广泛应用在气体存储和摩擦学等领域.氯气刻蚀法制备CDC涂层具有操作简单、成本低、易控制等优点.实验系统研究了热处理气氛中氯气含量对CDC涂层性能的影响,通过激光共聚焦显微镜、高温摩擦磨损试验机、显微硬度仪、划痕仪等检测手段,分析了CDC涂层性能与热处理气氛之间的关系.结果表明,在氯气体积分数为5%~9%条件下1 175℃保温2 h所制备的CDC涂层表面光滑平整、硬度较高、且与基体的结合强度较好.此时CDC涂层的干摩擦因数最小为0.108,耐磨性最强,具有良好的摩擦学性能. CDC涂层显微硬度约为153 HV,明显低于SiC陶瓷的硬度. 

【文章来源】:云南大学学报(自然科学版). 2020,42(05)北大核心CSCD

【文章页数】:5 页

【部分图文】:

不同热处理气氛下制备CDC涂层


不同刻蚀气氛下所制备的CDC/SiC涂层摩擦曲线Fig.1FrictioncurveofCDC/SiCcoatingspreparedunderdifferentetchingatmosphere

曲线,气氛,刻蚀,涂层


图1不同刻蚀气氛下所制备的CDC/SiC涂层摩擦曲线Fig.1FrictioncurveofCDC/SiCcoatingspreparedunderdifferentetchingatmosphere表2不同刻蚀气氛下制备的CDC涂层摩擦因数Tab.2FrictioncoefficientofCDCcoatingspreparedunderdifferentetchingatmosphere刻蚀气氛平均摩擦因数Ar3%Cl20.170Ar5%Cl20.114Ar7%Cl20.108Ar9%Cl20.127Ar11%Cl20.1312.3热处理气氛对CDC涂层结合强度的影响采用涂层划痕仪对CDC涂层与SiC基体之间的结合强度进行测试,其结果如图2和表3所示.从图2和表3可知不同的刻蚀气氛下所形成的CDC涂层临界脱落载荷基本在45~55N区间内变化,在φ(Cl2)较小时(3%)CDC涂层容易脱落主要是由于缺少足够的刻蚀源,SiC基体表面所形成的CDC涂层较薄,不够连续.在刻蚀气氛中φ(Cl2)大于5%时,CDC涂层与SiC基体的临界脱落载荷趋于稳定,在Ar5%Cl2时取得最大值,此时CDC涂层与基体结合强度最强.2.4热处理气氛对CDC涂层表面形貌的影响采用LSM800型激光共聚焦显微镜分析CDC/SiC陶瓷复合材料的微观组织,结果如图3所示.从图3中可以看出,随着刻蚀气氛中φ(Cl2)的增大,SiC陶瓷基体表面逐渐形成连续致密性CDC涂层,表面越来越平整.在φ(Cl2)较小的环境下因为缺少刻蚀源,SiC基体上所生长的CDC涂层不够致密,表面较为粗糙(图3(a)),随着刻蚀气氛中φ(Cl2)的增加,CDC涂层逐渐覆盖SiC基体,形成相对较为致密的CDC膜.图2不同刻蚀气氛下所制备的C

微观形貌,气氛,刻蚀,涂层


蚀气氛下所形成的CDC涂层临界脱落载荷基本在45~55N区间内变化,在φ(Cl2)较小时(3%)CDC涂层容易脱落主要是由于缺少足够的刻蚀源,SiC基体表面所形成的CDC涂层较薄,不够连续.在刻蚀气氛中φ(Cl2)大于5%时,CDC涂层与SiC基体的临界脱落载荷趋于稳定,在Ar5%Cl2时取得最大值,此时CDC涂层与基体结合强度最强.2.4热处理气氛对CDC涂层表面形貌的影响采用LSM800型激光共聚焦显微镜分析CDC/SiC陶瓷复合材料的微观组织,结果如图3所示.从图3中可以看出,随着刻蚀气氛中φ(Cl2)的增大,SiC陶瓷基体表面逐渐形成连续致密性CDC涂层,表面越来越平整.在φ(Cl2)较小的环境下因为缺少刻蚀源,SiC基体上所生长的CDC涂层不够致密,表面较为粗糙(图3(a)),随着刻蚀气氛中φ(Cl2)的增加,CDC涂层逐渐覆盖SiC基体,形成相对较为致密的CDC膜.图2不同刻蚀气氛下所制备的CDC/SiC涂层划痕曲线Fig.2ScratchcurveofCDC/SiCcoatingspreparedunderdifferentetchingatmosphere表3不同刻蚀气氛下制备的CDC/SiC涂层脱落的临界载荷Tab.3CriticalsheddingloadofCDC/SiCcoatingspreparedunderdifferentetchingatmosphere刻蚀气氛临界载荷/NAr3%Cl246.00Ar5%Cl255.50Ar7%Cl253.50Ar9%Cl254.15Ar11%Cl252.80图3不同刻蚀气氛下所制备的CDC涂层微观形貌Fig.3MorphologyofCDCcoatingspreparedunderdifferentetchingatmosphere938云南大学学报(自然科学版)http://www.yndxxb.ynu.edu.cn第42卷

【参考文献】:
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本文编号:3343366

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