石墨烯量子点用于修复石墨烯结构缺陷及其薄膜导热性能研究
发布时间:2021-09-25 09:50
为解决GO制备过程中,不可避免引入的石墨烯拓扑结构缺陷对热传递性能的显著影响,研究采用石墨烯量子点(GQDs)作为外部碳源,通过在高温条件下修复石墨烯中的拓扑结构缺陷,制备出了自支撑的石墨化–氧化石墨烯/石墨烯量子点(g-GO/GQDs)散热薄膜。与原始的gGO膜相比,g-GO/GQDs薄膜的面内热导率提高了22.1%,达到739.04 W/(m·K)。通过进一步的薄膜结构分析,发现其热导率的提高可归因于石墨化过程中sp2碳晶格域的恢复和形成。石墨烯导热薄膜的散热性能研究表明,该研究结果可有效提高石墨烯薄膜的散热效果,为制备高性能散热薄膜提供了新思路。
【文章来源】:上海理工大学学报. 2020,42(02)北大核心CSCD
【文章页数】:9 页
本文编号:3409496
【文章来源】:上海理工大学学报. 2020,42(02)北大核心CSCD
【文章页数】:9 页
本文编号:3409496
本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/cailiaohuaxuelunwen/3409496.html