新型二维材料的结构修饰与电子性质调控
发布时间:2021-11-09 16:51
纳米材料发展迅猛,在诸多领域展现出了优越的物理和化学性能,具有巨大潜力。自2004年实验上成功剥离石墨烯以来,大量二维(2D)新材料被理论预测、甚至在实验中被成功制备,构成了一个庞大的2D体系家族。2D纳米材料通常具有超薄、载流子迁移率高、光电性能优异、带隙易调控等优势,有望替代传统单晶硅成为下一代电子器件材料。其中,场效应晶体管(FETs)是众多电子器件中的一种基础性器件,可应用在控制器开关、气敏传感器等诸多电子器件中。基于2D纳米材料的FETs,具有更高的器件稳定性和传输性能。此外,由于2D纳米材料的层状结构特点,我们更容易通过寻找合适基底、施加应变和电场等手段,对其相关性能进行改善和调控,以获得新型的功能性电子器件。与此同时,实验上成功制备出具有本征磁性的2D纳米材料,进一步将2D纳米电子器件拓宽到自旋电子学领域。2D纳米自旋电子器件充分利用了电荷与自旋的自由度,具有体积小、速度快、存储密度高、功耗低等优势,有望发展成为新一代自旋电子器件。此外,纳米材料在光催化领域也具有重要的应用前景。光催化技术作为解决环境污染和能源短缺问题的重要手段,吸引了人们的广泛关注。然而,现有的光催化材...
【文章来源】:山东大学山东省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校
【文章页数】:114 页
【学位级别】:博士
【部分图文】:
图3.1-1.?Silicene和AsSb单层的俯视图、侧视图,以及相应基于杂化泛函(HSE06)??的能带结构:Silicene(a、d、c)和AsSb(b、e、f)
的能带结构:Silicene(a、d、c)和AsSb(b、e、f)。其中,蓝色、绿色和橙色原子??分别代表Si、As和Sb原子,能带结构的价带顶(VBM)能级设置为0。??首先,我们研究了单层Silicene和AsSb的几何结构和电子性质,如图3.卜1??所示。通过结构优化,我们得到稳定Silicene的晶格参数是=?3.86?A,最相邻??31原子之间的距离是4=2.28人;八531)单层的晶格参数为奶=3.86人,且八5-35??的键长为必=2.69?A。Silicene沿着z方向的褶皱是蚋=0.44?A,AsSb沿着z方??向的褶皱是幻==1.51?A。相关的结构参数如表3.1-1所示,这与之前文献中的计??算结果是相一致[22,29]。值得注意的是,8丨1丨(^1^/八3813的晶格失配度近乎为零。??因此,在实验中控制生长Silicene时可以避免很多实际的操作问题,有利于该界??面的形成。与其他衬底相比,例如?Silicene/h-BN?(2.08?%)、Silicene/Sc2CF2(0.68?%)??和?Silicene/MoS2(2.42?%)?[16-18]
的能带结构:Silicene(a、d、c)和AsSb(b、e、f)。其中,蓝色、绿色和橙色原子??分别代表Si、As和Sb原子,能带结构的价带顶(VBM)能级设置为0。??首先,我们研究了单层Silicene和AsSb的几何结构和电子性质,如图3.卜1??所示。通过结构优化,我们得到稳定Silicene的晶格参数是=?3.86?A,最相邻??31原子之间的距离是4=2.28人;八531)单层的晶格参数为奶=3.86人,且八5-35??的键长为必=2.69?A。Silicene沿着z方向的褶皱是蚋=0.44?A,AsSb沿着z方??向的褶皱是幻==1.51?A。相关的结构参数如表3.1-1所示,这与之前文献中的计??算结果是相一致[22,29]。值得注意的是,8丨1丨(^1^/八3813的晶格失配度近乎为零。??因此,在实验中控制生长Silicene时可以避免很多实际的操作问题,有利于该界??面的形成。与其他衬底相比,例如?Silicene/h-BN?(2.08?%)、Silicene/Sc2CF2(0.68?%)??和?Silicene/MoS2(2.42?%)?[16-18]
本文编号:3485721
【文章来源】:山东大学山东省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校
【文章页数】:114 页
【学位级别】:博士
【部分图文】:
图3.1-1.?Silicene和AsSb单层的俯视图、侧视图,以及相应基于杂化泛函(HSE06)??的能带结构:Silicene(a、d、c)和AsSb(b、e、f)
的能带结构:Silicene(a、d、c)和AsSb(b、e、f)。其中,蓝色、绿色和橙色原子??分别代表Si、As和Sb原子,能带结构的价带顶(VBM)能级设置为0。??首先,我们研究了单层Silicene和AsSb的几何结构和电子性质,如图3.卜1??所示。通过结构优化,我们得到稳定Silicene的晶格参数是=?3.86?A,最相邻??31原子之间的距离是4=2.28人;八531)单层的晶格参数为奶=3.86人,且八5-35??的键长为必=2.69?A。Silicene沿着z方向的褶皱是蚋=0.44?A,AsSb沿着z方??向的褶皱是幻==1.51?A。相关的结构参数如表3.1-1所示,这与之前文献中的计??算结果是相一致[22,29]。值得注意的是,8丨1丨(^1^/八3813的晶格失配度近乎为零。??因此,在实验中控制生长Silicene时可以避免很多实际的操作问题,有利于该界??面的形成。与其他衬底相比,例如?Silicene/h-BN?(2.08?%)、Silicene/Sc2CF2(0.68?%)??和?Silicene/MoS2(2.42?%)?[16-18]
的能带结构:Silicene(a、d、c)和AsSb(b、e、f)。其中,蓝色、绿色和橙色原子??分别代表Si、As和Sb原子,能带结构的价带顶(VBM)能级设置为0。??首先,我们研究了单层Silicene和AsSb的几何结构和电子性质,如图3.卜1??所示。通过结构优化,我们得到稳定Silicene的晶格参数是=?3.86?A,最相邻??31原子之间的距离是4=2.28人;八531)单层的晶格参数为奶=3.86人,且八5-35??的键长为必=2.69?A。Silicene沿着z方向的褶皱是蚋=0.44?A,AsSb沿着z方??向的褶皱是幻==1.51?A。相关的结构参数如表3.1-1所示,这与之前文献中的计??算结果是相一致[22,29]。值得注意的是,8丨1丨(^1^/八3813的晶格失配度近乎为零。??因此,在实验中控制生长Silicene时可以避免很多实际的操作问题,有利于该界??面的形成。与其他衬底相比,例如?Silicene/h-BN?(2.08?%)、Silicene/Sc2CF2(0.68?%)??和?Silicene/MoS2(2.42?%)?[16-18]
本文编号:3485721
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