石墨烯/类金刚石碳复合薄膜的电化学沉积及其场发射性能

发布时间：2021-11-26 07:52

　　采用液相电化学方法在硅基底上制备了石墨烯掺杂的类金刚石碳复合薄膜,探讨了电化学沉积复合薄膜的机理。利用扫描电子显微镜（SEM）、拉曼光谱（Raman）、透射电子显微镜（TEM）和傅里叶变换红外（FTIR）光谱技术对薄膜表面形貌和微观结构进行了分析表征。结果表明,石墨烯片均匀分散沉积在含氢类金刚石碳（a-C:H）基体中,沉积的石墨烯/类金刚石（G/a-C:H）复合薄膜表面相对均匀平整。场发射测试显示石墨烯掺杂使开启电场从4.7 V?μm^-1增加至5.8 V?μm^-1,场发射电流密度从384μA?cm^-2显著增加至876μA?cm^-2。 

【文章来源】：物理化学学报. 2016,32(07)北大核心SCICSCD

【文章页数】：5 页

【文章目录】：
1 引言
2 实验部分
    2.1 样品制备
    2.2 样品表征
3 结果与讨论
    3.1 表面形貌
    3.2 结构分析
    3.3 沉积机理
    3.4 场发射性能
4 结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]紫外光辐照下钛硅共掺杂类金刚石薄膜微结构的演化[J]. 姜金龙,王琼,黄浩,张霞,王玉宝,耿庆芬.  无机材料学报. 2014(09)



本文编号：3519711