溅射功率对磁控溅射法制备MgF 2 薄膜组织和性能的影响（英文）

发布时间：2022-01-05 07:22

　　为了减少磁控溅射法沉积MgF₂薄膜的F贫乏缺陷,在工作气体Ar₂中加入SF₆作为反应气体,在石英玻璃衬底上用射频磁控溅射法制备了MgF₂薄膜,研究了溅射功率对MgF₂薄膜化学成分、微观结构和光学性能的影响。结果表明,随着溅射功率从115 W增加到220 W, F:Mg的原子比不断增加, 185 W时达到2.02,最接近理想化学计量比2:1;薄膜的结晶度先提高后降低,最后转变为非晶态; MgF₂薄膜的颗粒尺寸先是有所增加,轮廓也变得更加清晰,最后又变得模糊。MgF₂薄膜的折射率先减小后增大,在185W时获得最低值,550nm波长的折射率1.384非常接近MgF₂块体晶体;镀膜玻璃在300～1100 nm范围内的透光率（以下简称薄膜透光率）先增大后减小, 185 W时达到94.99%,比玻璃基底的透光率高出1.79%。 

【文章来源】：无机材料学报. 2020,35(09)北大核心EISCICSCD

【文章页数】：7 页

【文章目录】：
1 Experimental
    1.1 Film preparation
    1.2 Characterization
2 Results and discussion
    2.1 F:Mg molar ratio of thin films
    2.2 Micro structure
    2.3 Surface morphology
    2.4 Optical properties
3 Conclusions


【参考文献】：
期刊论文
[1]火星表面环境对太阳电池阵设计影响分析与对策[J]. 刘治钢,王飞,陈燕,黄三玻,郭伟峰,林文立.  航天器工程. 2016(02)



本文编号：3570004