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单根Co 81 Cu 19 /Cu多层纳米线电学性质的原位测量

发布时间:2022-01-16 00:18
  磁电阻效应是衡量磁结构单体性能的最重要指标。随着对磁电阻效应的不断研究和应用,不仅诞生了与电子自旋相关的自旋电子学理论,同时也促进了电子学器件的快速发展,这不仅为基础物理的理论研究提供了实验根基,也将促进今后大规模高科技产业的形成。随着半导体加工工艺技术的不断提高,电子学器件的基本结构单元已经达到了纳米量级,这将引起一些纳米范畴的特性对其宏观性能的调控和影响。基于此,全面掌握纳米磁结构单体基本的物理特性是非常必要的,对其全面了解和精确测量能够进一步推动自旋电子学器件的应用和发展。本文应用电化学沉积法制备了CoCu/Cu多层纳米线,且在电镜下对单根CoCu/Cu多层纳米线的磁电特性进行了原位测试。通过对多层纳米线电特性的测量,不仅获得了多层纳米线的基本物理参数,还得到了直观、清晰的物理图像,这为磁结构单体今后的发展和应用提供了可靠的理论基础和实际指导。 

【文章来源】:电子显微学报. 2020,39(05)北大核心CSCD

【文章页数】:9 页

【部分图文】:

单根Co 81 Cu 19 /Cu多层纳米线电学性质的原位测量


a. Co81Cu19/Cu多层纳米线电阻测试的SEM像,Bar=2 μm;b. 针尖电阻的I-V曲线图,插图是测试镍镉针尖时的

原理图,纳米,单根,实物


对Co81Cu19/Cu多层纳米线的形貌和化学组分进行了表征和分析之后,应用选区电子衍射技术对三种纳米线的晶体结构进行分析。图2b是一张来自于图2a中被标记区域的SAED图。通过分析可得这些衍射环来自于两种材料,其中用绿色标记的衍射环与面心立方结构Cu的衍射环一致。红色标记的环来自于面心立方Co。这些结果说明制备的CoCu/Cu多层纳米线的微结构主要由面心立方结构的Co和Cu单质组成。为了更进一步证实上述分析的正确性,对单相Cu纳米线和CoCu纳米线的晶体结构进行了分析。图2d是来自于单相CoCu纳米线(图2c被标记部分)的SAED图,根据分析,其衍射信息与图2b中红线标记部分相同。同样,对单相Cu纳米线的(图2e被标记部分)电子衍射信息进行测试,如图2f所示,它的衍射信息也与图2b中绿线标记部分相同。这个结果再一次证明本文作者制备出了由面心立方的Co和Cu单质颗粒组成的多层纳米线。图2 a. Co81Cu19/Cu多层纳米线的TEM像,Bar=100 nm;c. Co81Cu19纳米线的TEM像,Bar=500 nm;e. Cu纳米线的

原理图,纳米,单根,电学


a. Co81Cu19/Cu多层纳米线的TEM像,Bar=100 nm;c. Co81Cu19纳米线的TEM像,Bar=500 nm;e. Cu纳米线的


本文编号:3591578

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