微纳米标准样板的制备与表征

发布时间：2023-03-29 20:18

　　针对现有标准样板存在循迹结构不明显,有效尺寸结构难以定位等问题,本文将设计有效结构特征明显、测量效率高效的标准样板作为研究重点。首先对计量型纳米测量仪(NMM)中的激光干涉仪进行拍频实验,保证移动平台内激光干涉仪的稳定性与可溯源性。设计并制备了台阶高度为60nm具有可循迹结构台阶标准样板及一维、二维栅格标准样板,对其加工工艺进行了相关的研究,并使用计量型NMM对其进行了可溯源性校准与验证。主要研究内容与结果总结如下:(1)研究了计量型NMM的工作原理及其溯源性,对具有激光干涉仪的计量型NMM的可溯源性进行了实验,依据激光干涉仪的检定规程对计量型NMM中的三轴激光干涉仪进行了拍频实验,确保其测量结果的可溯性与可靠性。通过可以溯源至NIST的VLSI STS2-1000S标准样板对计量型的NMM进行测量实验,确保了仪器测量结果的精确性。(2)对标准样板的循迹结构进行了研究,设计了标准值为60nm,具有可循迹结构的纳米台阶标准样板,并对加工标准样板的半导体加工工艺进行了研究。使用具有溯源性的计量型NMM结合多种测量方法对其进行测量与表征,并开展标准样板的局部均匀性与长时间稳定性实验。实验结果...

【文章页数】：61 页

【学位级别】：硕士

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致谢
摘要
abstract
1 绪论
    1.1 课题研究背景和意义
    1.2 国内外研究现状
    1.3 课题主要研究内容
2 纳米测量仪(NMM)的溯源性
    2.1 本章引论
    2.2 纳米测量仪的测量系统
    2.3 纳米测量仪的溯源性研究
        2.3.1 纳米量值溯源体系
        2.3.2 NMM的激光拍频实验
    2.4 基于纳米测量仪的量值溯源体系
    2.5 纳米测量仪的测量实验
        2.5.1 NMM对VLSI样板的重复性测量实验
        2.5.2 NMM对VLSI样板的稳定性测量实验
    2.6 本章小结
3 可循迹纳米台阶标准样板的制备与表征
    3.1 本章引论
    3.2 纳米台阶标准样板的设计
    3.3 纳米台阶标准样板的制备工艺
        3.3.1 衬底材料准备
        3.3.2 衬底材料硅的氧化
        3.3.3 涂胶
        3.3.4 曝光
        3.3.5 显影
        3.3.6 刻蚀
        3.3.7 去胶
        3.3.8 溅射
    3.4 纳米台阶标准样板的表征
        3.4.1 测量设备
        3.4.2 测量的过程与结果分析
        3.4.3 台阶标准样板的区域均匀性
        3.4.4 台阶标准样板的稳定性实验
    3.5 本章小结
4 栅格标准样板的研制与评价
    4.1 本章引论
    4.2 栅格微纳米标准样板的制备
        4.2.1 微纳米标准样板的设计
        4.2.2 微纳米标准样板的制备工艺
    4.3 微纳米标准样板的表征
        4.3.1 微纳米标准样板的测量过程
        4.3.2 微纳米标准样板的质量参数
        4.3.3 一维栅格样板的周期与均匀性
        4.3.4 二维栅格样板的周期与均匀性
        4.3.5 微纳米标准样板的稳定性分析
    4.4 本章小结
5 总结与展望
    5.1 总结
    5.2 创新点
    5.3 工作展望
参考文献
作者简历



本文编号：3774403