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氢分离用单相V基合金膜研究进展

发布时间:2023-04-05 16:05
  Pd-Ag合金膜作为分离高纯H2的金属膜目前已经商业化应用,但由于Pd-Ag合金膜的材料成本高,限制了其大规模应用。单相V基合金膜拥有比Pd-Ag合金膜更高的H渗透率、机械强度和较低的成本,且氢脆抗力较纯V有很大提高,塑性和H渗透率也比多相V基合金膜高,因此成为替代Pd-Ag合金膜的潜在材料之一。本文综述了氢分离用单相V基合金膜的研究进展,包括V基合金膜种类及H渗透性能、微观结构对H渗透性能的影响、合金膜失效机制等,并对氢分离用单相V基合金膜未来的发展趋势进行了简单的展望。

【文章页数】:7 页

【文章目录】:
1 金属膜H渗透的工作原理
2 单相V基合金膜研究现状
    2.1 单相V-Al系合金膜
    2.2 单相V-Ni系合金膜
    2.3 单相V-M-N合金膜(M、N:Pd、Cr、Co、Ti、Fe、Y、Mo、Nb)
3 微观结构对单相V基合金膜H渗透性能的影响
4 合金膜的失效机制
5 结语



本文编号:3783713

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