基于原子层沉积技术的纳米颗粒表面改性方法（英文）

发布时间：2023-04-07 22:55

　　在原子尺度制造方法中,原子层沉积(ALD)是一种依靠表面自限制吸附反应沉积超薄膜的技术,具有优异的制造精度、保型性和沉积均匀一致性等独特优势.本文介绍了ALD技术在纳米颗粒表面改性的最新进展及应用.通过ALD工艺调控可以精准制备致密包覆层,多孔包覆层以及表面定向改性构型.纳米级致密包覆层可以隔绝外界环境,提升颗粒稳定性,同时保留颗粒本体性能.多孔包覆层则具有纳米通道,在保留颗粒与外界接触的同时,实现了对进入反应物尺寸的筛选,以及提供了物理限域作用增强稳定性.表面定向改性则能够选择性钝化或者暴露纳米颗粒特定功能表面. ALD的颗粒表面改性技术在电极材料、含能与磁性颗粒的稳定化,催化剂活性位点定向调控等方面具有前瞻性应用.最后,文章展望了ALD进行微纳颗粒表面改性未来面临的挑战和发展方向.

【文章页数】：11 页

【文章目录】：
1. Introduction
2. Conformal coating on particles
3. Porous coating and confined structures on particles
4. Selective decoration on particles
5. ALD precursors and reactors for particles surface functionalization
6. Conclusion and perspective
Conflict of interest
Author contributions



本文编号：3785495