氮分压对Ta-Ru-N薄膜微观组织和性能的影响

发布时间：2023-04-23 05:17

　　采用反应磁控溅射技术,在单晶Si(100)面基底上制备了4个氮分压条件下Ta-Ru-N扩散阻挡层薄膜。通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱(EDS)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)以及四探针电阻测试仪(FPP),对所制备薄膜的相结构、表面形貌和电学性能进行了表征,研究了氮分压对薄膜微观组织和性能的影响。研究结果表明:制备的Ta-Ru-N薄膜为非晶态,适量氮气的加入能够提高薄膜表面的平整度,薄膜方阻随着氮分压的增加而逐渐增加。

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【文章目录】：
0 引言
1 试验方法
2 结果与讨论
    2.1 氮分压对Ta-Ru-N薄膜物相结构的影响
    2.2 氮分压对Ta-Ru-N薄膜表面及断面形貌的影响
    2.3 不同氮分压下Ta-Ru-N薄膜的三维形貌分析
    2.4 不同氮分压下Ta-Ru-N薄膜的TEM分析
    2.5 不同氮分压下Ta-Ru-N薄膜的FPP分析
3 结论



本文编号：3799168