二次掺杂聚吡咯/聚噻吩膜的制备及其光电性能

发布时间：2023-08-03 17:59

　　为了研究磷酸锌二次掺杂聚吡咯/聚噻吩膜的光电及防腐蚀性能,采用直接接触氧化技术在磷酸锌溶液中制备出掺杂聚吡咯/聚噻吩,再用磷酸锌在脱掺杂聚吡咯的基础上制备出性能优良的二次掺杂聚吡咯/聚噻吩膜。采用循环伏安曲线、扫描电镜和动电位极化曲线测试了二次掺杂聚吡咯/聚噻吩/磷酸锌复合材料的微观形貌及光电性能,并与一次掺杂及未掺杂的聚吡咯/聚噻吩进行了对比。测试结果表明:不锈钢表面覆盖掺杂的聚吡咯/聚噻吩膜都有较好的光电性能,以二次掺杂聚吡咯/聚噻吩膜性能为最好。与未掺杂的聚吡咯/聚噻吩高分子膜相比,二次掺杂聚吡咯膜的腐蚀电位比纯聚苯胺膜提高了约0.989 V,自腐蚀电流降低了约2个数量级。

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【文章目录】：
1 引言
2 实验
    2.1 实验试剂
    2.2 二次掺杂聚吡咯/聚噻吩膜的制备方法
    2.3 二次掺杂聚吡咯/聚噻吩高分子膜的制备
    2.4 表征及防腐蚀性能测试
3 结果与讨论
    3.1 循环伏安曲线
    3.2 充放电曲线
    3.3 扫描电镜
    3.4 极化曲线
    3.5 颗粒的加入量对Ppy-ZP膜层光电性能的影响
4 结论



本文编号：3838551