疏水/超疏水硅表面的制备及液滴的运动特性

发布时间：2023-08-18 19:43

　　以硅为基底,采用反应离子刻蚀技术和自组装技术制备疏水/超疏水表面,测量各表面的静态接触角和滚动角,借助高速摄像系统分析液滴滴落到不同硅表面的运动特性。结果表明,微柱高度不同,接触角随微柱间距的变化规律不同;滚动角随微柱高度的增加而增大,随微柱间距的增加而减小。对于液滴在其上能够发生滚动的硅表面,当水平放置时,液滴滴落后,铺展系数和回弹系数均随着跳动次数的增加逐渐减小,且滚动角越大,其减小速度越快;当硅表面倾斜放置时,若倾斜角小于滚动角,液滴滴落后的跳动距离越来越小,且滚动角越大,跳动距离减小的速度越快;若倾斜角大于滚动角,则液滴跳动距离越来越大,但滚动角越大,跳动距离增大的速度越小。

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【文章目录】：
0 引言
1 实验
    1.1 实验过程
2 结果与讨论
    2.1 试样表面的三维形貌
    2.2 试样表面静态接触角
    2.3 试样的滚动角
    2.4 液滴滴落到硅表面后的运动特性
        (1)β=0°时,液滴的运动过程
        (2)β≠0°时,液滴的运动过程
3 结论



本文编号：3842828