微波退火对原子层沉积TiO 2 薄膜性能的影响

发布时间：2023-12-04 19:34

　　采用原子层沉积(ALD)技术,以四氯化钛和水为前驱体,在钠钙玻璃衬底上沉积TiO₂薄膜,并进行微波退火处理。通过拉曼光谱、紫外-可见分光光度计、X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)等,对不同微波退火温度下TiO₂薄膜的表面形貌、物相结构和光学性能进行了表征。结果表明,所制备的样品为锐钛矿型TiO₂薄膜,微波退火温度达到500℃时晶粒尺寸最大,为21.71 nm。其拉曼光谱的144 cm^-1峰位没有发生偏移,但强度略有变化。随着微波退火温度的升高,TiO₂薄膜的透过率先下降后升高,折射率和消光系数则先增加后下降。拟合得到的TiO₂薄膜的禁带宽度从3.43 eV降到3.17 eV。通过AFM观察到微波退火促进了原子重新排列,改善了表面粗糙度,形成了均匀的锐钛矿型TiO₂薄膜。

【文章页数】：7 页

【文章目录】：
0 引言
1 实验部分
    1.1 TiO2薄膜的制备
    1.2 TiO2薄膜的表征
2 结果与讨论
    2.1 TiO2薄膜的物相结构
    2.2 TiO2薄膜的表面形貌
    2.3 TiO2薄膜的光学性能
3 结论



本文编号：3870575