甲基橙在聚吡咯/纳米SiO 2 复合材料上的氧化性能

发布时间：2024-03-10 09:11

　　采用紫外-可见光谱法研究了甲基橙在聚吡咯/纳米Si O2复合材料(PPy/n-Si O2)上的氧化性能.结果表明:在弱酸性介质中,PPy/n-Si O2对甲基橙的氧化性能明显优于聚吡咯;反应5⁴0 min时,甲基橙氧化反应符合表观一级反应动力学;反应60 min时,甲基橙的降解率可达到94.7%;PPy/n-Si O2经二次回收再生后,反应60 min时甲基橙降解率为96.5%.

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【文章目录】：
1 实验部分
    1.1 试剂与仪器
    1.2 甲基橙的氧化反应及其降解率计算
2 结果与讨论
    2.1 甲基橙在PPy/n-Si O2上的氧化反应
    2.2 甲基橙氧化反应的光谱分析
    2.3 甲基橙氧化反应的动力学
    2.4 PPy/n-Si O2的再生回收
3 结论



本文编号：3924567