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TiO 2 /BiVO 4 /SiO 2 分层薄膜的制备与性能研究

发布时间:2024-03-22 19:46
  随着光催化技术的研究与发展,其在环境方面的应用越来越受到人们的重视。稳定性好、光催化活性高的TiO2引起了学者的广泛关注,但是其较高的禁带宽度3.2eV,只能对紫外光有吸收,从而限制了其太阳光利用率。单斜相的BiVO4作为一种新型的半导体材料,具有较好的可见光响应度,其禁带宽度为2.4eV,但是单纯的BiVO4的导带边的电势位于0V的位置,其光生电子不容易与空气中的氧气结合生成活性物质,导致电子在催化剂表面形成积累,增加了电子与空穴的复合几率,从而大大降低了BiVO4在可见光下的光催化活性。经研究表明,两种半导体的复合材料具有较好的可见光光催化活性。粉末状的光催化剂存在易失活、难回收等缺点,使其应用受到限制。薄膜类的光催化剂具有稳定性好、耐酸碱性强和易回收等优点,在日常生活中得到广泛应用。其中自清洁材料得到很好的发展。自清洁材料是通过光致分解有机物或者超疏水性和超亲水性实现自清洁功能,在建筑、交通、新能源等行业具有重要的应用前景。本文包括以下几个部分:(1)以普通玻璃为基底,采用溶胶凝胶法制备不同涂...

【文章页数】:67 页

【学位级别】:硕士

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摘要
Abstract
引言
第一章 绪论
    1.1 TiO2薄膜光催化材料
        1.1.1 TiO2薄膜的制备
        1.1.2 TiO2掺杂改性研究
    1.2 BiVO4光催化材料
        1.2.1 BiVO4的结构与性能
        1.2.2 BiVO4的制备
    1.3 SiO2薄膜
        1.3.1 SiO2薄膜的功能应用
        1.3.2 SiO2薄膜的制备
    1.4 选题意义及研究内容
        1.4.1 选题意义
        1.4.2 研究内容
    1.5 研究目标及论文特色
        1.5.1 研究目标
        1.5.2 论文特色
第二章 实验方法和表征手段
    2.1 薄膜的结构表征
        2.1.1 X射线衍射仪(XRD)
        2.1.2 扫描电子显微镜(SEM)
        2.1.3 紫外-可见光谱(UV-Vis)
    2.2 薄膜的性能测定
        2.2.1 薄膜的光催化活性测定
        2.2.2 薄膜的自清洁性能测定
第三章 TiO2薄膜的制备与研究
    3.1 实验部分
        3.1.1 实验试剂
        3.1.2 实验仪器
        3.1.3 实验原理
        3.1.4 实验过程
    3.2 实验结果与讨论
        3.2.1 X射线衍射仪(XRD )分析
        3.2.2 扫描电子显微镜(SEM)
        3.2.3 UV-Vis光谱分析
    3.3 TiO2薄膜及T-1薄膜降解亚甲基蓝
        3.3.1 实验试剂及实验仪器
        3.3.2 实验过程
        3.3.3 实验结果与讨论
    3.4 TiO2薄膜及T-1薄膜亲水性能测试
    3.5 本章小结
第四章 BiVO4的制备与研究
    4.1 实验部分
        4.1.1 实验试剂
        4.1.2 实验仪器
        4.1.3 实验原理
        4.1.4 实验过程
    4.2 实验结果与讨论
        4.2.1 X射线衍射仪(XRD)
        4.2.2 扫描电子显微镜(SEM)
        4.2.3 UV-Vis光谱分析
    4.3 BiVO4薄膜降解亚甲基蓝
        4.3.1 实验试剂及实验仪器
        4.3.2 实验过程
        4.3.3 实验结果与讨论
    4.4 接触角的测定
    4.5 本章小结
第五章 TiO2/BiVO4薄膜的制备
    5.1 实验部分
        5.1.1 实验试剂
        5.1.2 实验设备
        5.1.3 实验过程
    5.2 实验结果与讨论
        5.2.1 X射线衍射(XRD)
        5.2.2 扫描电子显微镜(SEM)
        5.2.3 Uv-Vis光谱分析
    5.3 降解亚甲基蓝溶液
        5.3.1 实验试剂与仪器
        5.3.2 实验过程
        5.3.3 实验结果与讨论
    5.4 接触角测定
    5.5 本章小结
第六章 SiO2薄膜的制备与性能研究
    6.1 实验部分
        6.1.1 实验试剂
        6.1.2 实验设备
        6.1.3 实验原理
        6.1.4 实验过程
    6.2 实验结果与讨论
        6.2.1 X射线衍射(XRD)
        6.2.2 扫描电子显微镜(SEM)
        6.2.3 Uv-Vis光谱分析
    6.3 接触角的测定
    6.4 本章小结
第七章 SiO2/BiVO4/TiO2薄膜的制备
    7.1 实验部分
        7.1.1 实验试剂
        7.1.2 实验设备
        7.1.3 实验过程
    7.2 实验结果与讨论
        7.2.1 Uv-Vis光谱分析
    7.3 SiO2/BiVO4/TiO2薄膜降解亚甲基蓝
        7.3.1 实验试剂与仪器
        7.3.2 实验过程
        7.3.3 实验结果与讨论
    7.4 接触角的测定
    7.5 本章小结
结论
参考文献
后记或致谢
作者简介及读研期间主要科研成果



本文编号:3934869

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