掺N多孔碳/氧化镍锰和碳微纳米管的联合制备与电容性能的研究
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【部分图文】:
图4掺N多孔碳/镍和掺N多孔碳/氧化镍锰的XRD图
074.67801.59587.720.480.270.2023.9547.872.4晶型结构分析图4(a)中44.51,51.85和76.37°处出现了明显的衍射峰,与Ni的标准卡片(JCPDSNo.04-0850)相符合,分别对应于Ni的(111)、(200)、(220)衍射....
图5(b)与(d)均在-0.1和-0.7V附
DSNo.53-0633)α-MnO2的(310)衍射面,30.1和35.4°处对应标准卡片(JCPDSNo.01-1110)NiMn2O4的(220)、(311)衍射面。这充分说明KMnO4对镍的氧化是有效的,镍主要转变成NiO,同时伴生有NiMn2O4和α-MnO2。在图4(....
图6循环次数与比电容保持率的关系Fig6Therelationshipbetweencyclenumbersandspecificcapacitanceretention
原峰或平台,可能是它们的氧化还原电位未在测试窗口之内或因电极反应速度太快而未显示。图5(a)与(c)的CV曲线随扫速的增加,环的形状未发生明显的变化,表明该复合电极材料具有较高的倍率性能。参照文献[11]计算电极材料的比电容,能量密度和功率密度,结果见表2。比较发现,氧化后的复合....
图4掺N多孔碳/镍和掺N多孔碳/氧化镍锰的XRD图
074.67801.59587.720.480.270.2023.9547.872.4晶型结构分析图4(a)中44.51,51.85和76.37°处出现了明显的衍射峰,与Ni的标准卡片(JCPDSNo.04-0850)相符合,分别对应于Ni的(111)、(200)、(220)衍射....
本文编号:3970251
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