溶剂去除速度对于溶剂退火薄膜相形貌的影响

发布时间：2017-06-25 17:07

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【摘要】：以聚苯乙烯-聚4-乙烯基吡啶(PS-b-P4VP)嵌段共聚物作为研究对象,采用DMF作为退火溶剂,以原子力显微镜(AFM)和透射电子显微镜(TEM)为表征手段,研究了溶剂退火后期溶胀薄膜中溶剂的去除速度对于薄膜相形貌的影响,发现通过改变溶剂去除速度可以有效的调控薄膜中的形貌.当薄膜厚度为35 nm时,DMF的快速挥发会导致薄膜中形成以PS为分散相的反转柱状相结构,当降低溶剂的挥发速度时,薄膜中形成了以PS为分散相的环状形貌,当进一步减缓挥发速度时,薄膜中将形成台阶状的片层结构;然而当薄膜厚度为55 nm时,溶剂退火后期薄膜中形成的是以P4VP为分散相的正常柱状相结构,在相同溶剂去除速度条件下薄膜相形貌变化较小.
【作者单位】： 中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室;中国科学院大学;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所发光学及应用国家重点实验室;
【关键词】： 嵌段共聚物 溶剂退火 溶剂去除速度 相形貌 环状形貌
【基金】：国家自然科学基金(基金号21474108)资助项目
【分类号】：TQ317;TB383.2
【正文快照】： **通讯联系人,E-mail:hyhuang@ciac.ac.cn;tbhe@ciac.ac.cn嵌段共聚物薄膜能够自组装形成在纳米尺度形貌可调的有序结构(5~100 nm),相比于“自上而下”(bottom-up)的纳米图案化手段,如电子束刻蚀(E-beam lithography),DPN(dip-pennanolithography)方法,极紫外刻蚀(extremeultr

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