MPCVD法制备纳米金刚石薄膜的研究及应用进展

发布时间：2017-07-16 21:14

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【摘要】：通过介绍不同气源和相关工艺参数(温度、功率等)对MPCVD法制备纳米金刚石的影响,并对部分学者的研究成果进行简述。然后简要概括了MPCVD纳米金刚石在各种窗口、宽禁带半导体功率器件以及生物医学中的应用,最后对纳米金刚石未来的发展做出展望。
【作者单位】： 武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室;
【关键词】： 微波等离子体 化学气相沉积 纳米金刚石薄膜 应用
【基金】：湖北省教育厅科学技术研究计划优秀中青年人才项目(No.Q20151517) 武汉工程大学科学研究基金项目(No.K201506)
【分类号】：TQ163;TB383.2
【正文快照】： 0引言化学气相沉积法(CVD)沉积的金刚石薄膜由于其良好的化学稳定性、极高的热导率和较高的弹性模量等优良性能,成为许多科学技术应用领域里的首选材料[1-2]。然而,用CVD法制备出来的金刚石薄膜通常晶粒尺度为微米级,晶粒间存在有明显的空隙,且生长似柱状[3],因而表面粗糙度较

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本文编号：550575