高阻隔膜真空镀膜工艺专利分析

发布时间：2017-08-11 12:33

  本文关键词：高阻隔膜真空镀膜工艺专利分析

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【摘要】：本文通过查找高阻隔膜相关专利,认为通过设计铺层结构、增加阻隔层数目来提高阻隔性能将是高阻隔膜一重要发展方向。而为了兼顾成膜效率和膜层性能,在镀膜工艺及设备技术方面的发展也可大致分为两个方向,其一是设备的集成化处理,可实现单次沉积多个阻隔层;其二在于局部设备结构的优化,以提高采用现有技术所制备阻隔膜的性能。
【作者单位】： 乐凯集团研究院;
【关键词】： 阻隔膜 气相沉积 镀膜设备
【分类号】：TB306-18
【正文快照】： 1.前言相对于普通塑料薄膜材料,高阻隔膜对其阻氧性和阻水性提出了更高的要求,其在食品包装、电子器件封装、太阳能电池封装等方面有较多的使用。一般高阻隔膜为多层结构,其阻隔层可通过涂布技术以及近年来迅速发展的镀膜技术沉积到基材薄膜上。利用镀膜技术能够在基材表面形

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本文编号：656159