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氧分压对NiO_x薄膜微结构和电阻开关特性的影响

发布时间:2017-09-22 19:39

  本文关键词:氧分压对NiO_x薄膜微结构和电阻开关特性的影响


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【摘要】:利用磁控溅射方法在镀Pt的Si(100)衬底上沉积制备NiO_x薄膜,研究了氧分压对薄膜微结构和电阻开关特性的影响.微结构观测分析结果表明:在20%氧分压下,可获得沿[200]晶向择优生长的NiO_x多晶薄膜,薄膜表面平整致密,晶粒平均直径约为13.8nm,垂直衬底生长形成柱状晶粒结构.磁性测试结果显示薄膜具有典型的铁磁性磁化曲线,但薄膜饱和磁矩随着氧分压增加急剧降低.电学测试结果表明20%氧分压氛围下沉积制备薄膜样品的电流-电压曲线呈现出典型的双极性电阻开关特性:在-0.6V读取电压下,可获得大于10的高/低电阻态阻值比.指数定律拟合电流-电压实验曲线表明:薄膜低电阻态漏电流为欧姆接触电导;而薄膜处于高电阻态时,低电压下的漏电流仍以欧姆接触电导为主,高电压下则以缺陷主导的空间电荷限制电流为主.
【作者单位】: 西南大学物理科学与技术学院;
【关键词】NiOx薄膜 微结构 电阻开关特性
【基金】:国家自然科学基金(11274257) 重庆市自然科学基金(cstc2014jcyjA40029) 中央高校基本科研业务费专项资金(XDJK2014B043)
【分类号】:TB383.2
【正文快照】: 目前,非易失性存储器主流技术为Flash存储技术,但随着器件尺寸的不断减小,隧穿氧化层厚度的持续减薄导致存储电荷的隧穿效应越来越严重,这直接降低了Flash存储器件的数据保存持久性能[1].为制造出新一代复合型存储器,人们先后研发出了铁电存储器、磁存储器、相变存储器和电阻

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本文编号:902687

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