纳米压印法制作亚波长结构PI减反射膜

发布时间：2017-09-30 10:29

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【摘要】：为提高柔性基底太阳能电池光电转化效率,减少表面反射损失,用Tracepro光学仿真软件模拟设计亚波长结构减反射膜尺寸参数,仿真结果表明亚波长结构薄膜在纳米柱高度72 nm,占空比为0.5,光栅周期在300~440 nm处,光通量增强效果最佳.采用纳米压印技术,以多孔结构阳极氧化铝为模板,制作聚酰亚胺基底减反射膜.采用扫描电子显微镜和紫外-可见分光光度计研究了阳极氧化技术所制作的Al2O3模板及其纳米压印技术等工艺参数对PI薄膜透过率的影响.测试结果表明,在0.3 mol/L草酸溶液中,70 V恒压模式连续反应1 h条件下制备AAO模板,在280℃,800 kg压力条件下,热压印时间为10 min所得PI膜.在AM1.5大气质量条件下,UV-VIS透射光谱从440~1 000 nm区域,所制作的薄膜较原始PI膜的透过率提高2%~5%.
【作者单位】： 哈尔滨工业大学航天学院;上海空间电源研究所;
【关键词】： 亚波长结构 减反射膜 纳米压印 聚酰亚胺 阳极氧化
【基金】：中国航天科技集团公司航天科技创新基金(2014-YF-0420)
【分类号】：TB383.2;TM914.4
【正文快照】： 太阳能电池作为一种高效率、长寿命、高可靠性的空间能源,在太空中要应对恶劣环境(真空中高能射线的辐照)、经受-185~150℃的高低温急变冲击等.现以单晶硅为主的太阳能电池阵列,质量大,质脆等性质严重地限制了其在未来空间技术领域中的应用.柔性基底复合薄膜太阳电池凭借其耗

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本文编号：947707