物理气相沉积涂层技术在高可靠电磁继电器制造上的应用展望

发布时间：2017-06-04 22:09

  本文关键词：物理气相沉积涂层技术在高可靠电磁继电器制造上的应用展望，由笔耕文化传播整理发布。

【摘要】：本文仅针对国内外PVD(物理气相沉积)创新技术和解决方案的不断问世,以高可靠等级电磁继电器触点制造中普遍使用的电镀工艺为例,扼要介绍了PVD技术的涂层特点,替代传统的电镀金、电镀银、电镀镍等表面处理工艺的可行性,以及对产品性能和可靠性提升的重要性。本研究对转变宇航级、高可靠军用电磁继电器等机电产品生产制造模式具有重要意义。
【作者单位】： 北京航天控制仪器研究所;中国航天电子技术研究院165厂;
【关键词】： 物理气相沉积 电镀工艺 工艺固有缺陷 特种表面涂层 高可靠继电器
【分类号】：TM58
【正文快照】： 1引言PVD(物理气相沉积涂层)技术出现在二十世纪七十年代末。近年来,物理气相沉积涂层技术发展迅速,广泛应用在需表面成膜的工程领域。目前,在刀具、模具、零件制造领域广泛应用,其可制备各种特殊力学性能的薄膜涂层,如超硬、高耐蚀、耐热、抗氧化、低摩擦、自润滑等;可制备各

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