砷化镓材料发展状况概述

发布时间：2017-10-23 21:39

  本文关键词：砷化镓材料发展状况概述

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【摘要】：砷化镓广泛应用于光电子和微电子领域,是制作半导体发光二极管和通信器件的关键衬底材料。与硅单晶一样,砷化镓衬底正逐步向大尺寸、高几何精度、高表面质量方向发展。目前,日本住友电工、美国AXT代表着国际领先水平;中科晶电、晶明公司代表着国内的先进水平。未来几年,是国内企业研发6英寸产品,向国际水平冲击的重要时期。
【作者单位】： 中国电子科技集团公司第四十六研究所;
【关键词】： 砷化镓 半导体发光二极管 衬底材料
【基金】：天津市科技计划项目支持(15ZLZLZF00200)
【分类号】：TN304.23
【正文快照】： 砷化镓(Ga As)是目前最重要、最成熟的化合物半导体材料之一,广泛应用于光电子和微电子领域。Ga As材料主要分为两类:半绝缘砷化镓材料和半导体砷化镓材料。半绝缘砷化镓材料主要制作MESFET、HEMT和HBT结构的集成电路。主要用于雷达、微波及毫米波通信、超高速计算机及光纤通

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本文编号：1085527