薄膜晶体管中绝缘层的研究现状与趋势

发布时间：2017-10-27 03:20

  本文关键词：薄膜晶体管中绝缘层的研究现状与趋势

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【摘要】：本文主要介绍了绝缘层在薄膜晶体管中的重要作用,总结了在薄膜晶体管中应用的绝缘层材料种类及其特点,介绍了不同绝缘层的制备工艺,以及各种制备工艺的原理与特点。最后,通过分析近几年有关薄膜晶体管绝缘层的文献,介绍了薄膜晶体管在制备过程中遇到的主要问题及当前的研究热点,并对未来薄膜晶体管中绝缘层的制备工艺和绝缘材料的研究方向进行了展望。
【作者单位】： 上海交通大学电子工程系TFT-LCD关键材料及技术国家工程实验室;
【关键词】： 薄膜晶体管 溶胶凝胶法 紫外光退火 低温工艺
【分类号】：TN321.5
【正文快照】： (National Engineering Lab for TFT-LCD Key Materials and TechnologiesDepartment of Electronic Engineering,Shanghai Jiao Tong University,Shanghai 200240,China)1引言晶体管是人类20世纪最伟大的发明之一,1947年,美国贝尔实验室由肖克莱、巴丁和布拉顿组成的研究小组

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本文编号：1101699